[發明專利]用于高射頻功率導體蝕刻系統的錘頭TCP線圈支架

有效

• 申請號: 201410265091.1
• 申請日: 2014-06-13
• 公開（公告）號: CN104241072B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 龍茂林;亞歷克斯·帕特森
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/3065
• 代理公司: 上海勝康律師事務所31263
• 代理人: 李獻忠

1.一種包括襯底支架的等離子體處理系統，其包括：

室，其用于當襯底設置在所述室的所述襯底支架上時對所述襯底進行等離子體處理，所述室具有定向在所述襯底支架上方的陶瓷窗口；

由內線圈和外線圈限定的變壓器耦合等離子體(TCP)線圈，所述變壓器耦合等離子體線圈設置在所述陶瓷窗口上方；

設置在所述變壓器耦合等離子體線圈上方的陶瓷支架，所述陶瓷支架包括從中心區延伸到外周的多根輻條，所述輻條中的每根包括在背離輻條的軸的方向上使所述陶瓷支架徑向擴展的錘頭形狀；以及

將變壓器耦合等離子體線圈連接到所述陶瓷支架的多個螺釘，其中連接到所述外線圈的至少成對的螺釘在徑向上彼此偏置，并且所述成對的螺釘之一設置在所述錘頭形狀中；

其中所述陶瓷支架使用所述多個螺釘將所述變壓器耦合等離子體線圈支撐在所述室的所述陶瓷窗口上方。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理系統，其中，所述陶瓷支架包括用于接收所述多個螺釘的多個螺釘孔，所述多個螺釘孔無螺紋；以及

其中，所述多個螺釘中的每個包括無螺紋部分和螺紋部分，所述無螺紋部分被限定為坐落在所述無螺紋的螺釘孔中，并且所述螺紋部分被限定為旋入所述變壓器耦合等離子體線圈的螺紋中。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理系統，其中，所述多根輻條沿著支架軸和終端軸對齊。

4.根據權利要求3所述的等離子體處理系統，其進一步包括：

第一終端支架，在沿著所述終端軸對齊的輻條的第一端連接到所述陶瓷支架；以及

第二終端支架，在沿著所述終端軸對齊的所述輻條的第二端連接到所述陶瓷支架。

5.根據權利要求4所述的等離子體處理系統，其中，所述第一終端支架和所述第二終端支架分別連接到第一終端主體和第二終端主體，所述第一終端支架和所述第二終端支架保持所述第一終端主體和所述第二終端主體從所述陶瓷支架升高。

6.根據權利要求1所述的等離子體處理系統，其中，所述陶瓷支架包括在沿著所述終端軸對齊的輻條的相對的外端在所述變壓器耦合等離子體線圈的終端下方的細長通道。

7.根據權利要求1所述的等離子體處理系統，其中，所述徑向偏置是從所述陶瓷支架的中心區延伸并且延伸到被限定在所述陶瓷支架的所述外周的螺釘孔的角度。

8.根據權利要求3所述的等離子體處理系統，其進一步包括：

沿著所述終端軸限定的多個通道，所述通道的大小適合使終端能連接到所述變壓器耦合等離子體線圈以通過所述陶瓷支架并且與所述陶瓷支架保持間距來維持不接觸。

9.根據權利要求1所述的等離子體處理系統，其中，在所述輻條中的一根上設有三個螺釘，其中，第一螺釘設置成穿過所述錘頭形狀的第一側，第二螺釘設置成穿過輻條區，并且第三螺釘設置成穿過所述錘頭形狀的第二側，其中，所述第一側、所述第二側和所述輻條區限定所述錘頭形狀。

10.根據權利要求9所述的等離子體處理系統，其中，所述第一螺釘連接到所述外線圈的內部，所述第二螺釘連接到所述外線圈的中間部，并且所述第三螺釘連接到所述外線圈的外部。

11.一種在等離子體處理系統中使用的裝置，其包括：

陶瓷支架，所述陶瓷支架具有從中心區延伸到外周的多根輻條，所述輻條中的每根包括在背離輻條的軸的方向上使所述陶瓷支架徑向擴展的錘頭形狀；以及

設置成穿過所述陶瓷支架的多個螺釘孔，所述多個螺釘孔被限定為使螺釘能連接到具有內線圈和外線圈的變壓器耦合等離子體線圈，其中，所述外線圈設置在所述輻條中的每根的所述錘頭形狀下方，其中，徑向間隙被限定在所述錘頭形狀中的每個之間，所述徑向間隙限定繞著所述外線圈的不連續的環。

12.根據權利要求11所述的裝置，其中，至少成對的螺釘孔彼此徑向偏置，并且所述成對的螺釘孔之一設置在所述錘頭形狀中。

13.根據權利要求11所述的裝置，其進一步包括：

多個螺釘，所述多個螺釘被限定為配合穿過所述螺釘孔，所述螺釘包括無螺紋部分和螺紋部分，所述無螺紋部分被配置成坐落在所述螺釘孔中，并且所述螺紋部分被配置成旋入所述變壓器耦合等離子體線圈中。