[發明專利]與CMOS工藝兼容的NAND閃存結構的邏輯MTP有效
| 申請號: | 201410264647.5 | 申請日: | 2014-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN104009041A | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發明(設計)人: | 方鋼鋒 | 申請(專利權)人: | 蘇州鋒馳微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/115 | 分類號: | H01L27/115;G11C16/02 |
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標事務所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良;韓鳳 |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇州市張家港*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | cmos 工藝 兼容 nand 閃存 結構 邏輯 mtp | ||
1.與CMOS工藝兼容的NAND閃存結構的邏輯MTP,其特征是,包括:一個PMOS晶體管和一個NCAP電容組成單元,其中NCAP電容的漏極連接編程線,NCAP電容的浮柵連接PMOS晶體管的柵極;然后由2個或多個這種單元串聯組合在一起,即每個PMOS晶體管漏極連接到下一個PMOS晶體管的源極;在串聯組合的首尾PMOS晶體管上再各串聯一個PMOS晶體管,所有PMOS晶體管的襯底通過N阱連接在一起,所有NCAP電容的襯底通過P阱連接在一起。
2.如權利要求1所述的與CMOS工藝兼容的NAND閃存結構的邏輯MTP,其特征是,其中第一個PMOS晶體管PMOS1的源極再連接到一個PMOS管PMOS0的漏極,PMOS管PMOS0的柵極作為字節的控制線WL,源極作為比特的控制線BL,最后一個PMOS晶體管PMOSn的漏極再連接一個PMOS管PMOSn+1的源極,PMOS管PMOSn+1的柵極作為漏極端的字節的控制線SWL,漏極作為漏極端的控制線SL,n為大于或等于2的自然數。
3.如權利要求1所述的與CMOS工藝兼容的NAND閃存結構的邏輯MTP,其特征是,?所述NCAP?電容的襯底的P阱跟整個芯片的P型襯底由深N阱隔開。
4.如權利要求3所述的與CMOS工藝兼容的NAND閃存結構的邏輯MTP,其特征是,在P阱上加負的電壓時,NCAP電容上能夠傳負的電壓。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





