[發(fā)明專利]一種鋰離子電池負(fù)極片及其二次電池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410263444.4 | 申請日： | 2014-06-13 |
| 公開（公告）號： | CN104810505A | 公開（公告）日： | 2015-07-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 葛民民;石先興;呂豪杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 萬向A一二三系統(tǒng)有限公司;萬向電動(dòng)汽車有限公司;萬向集團(tuán)公司 |
| 主分類號： | H01M4/134 | 分類號： | H01M4/134;H01M4/1395 |
| 代理公司： | 杭州杭誠專利事務(wù)所有限公司 33109 | 代理人： | 尉偉敏 |
| 地址： | 311215 浙江省杭州*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 鋰離子電池 負(fù)極 及其 二次 電池 | ||
1.?一種鋰離子電池負(fù)極片，包括集流體和硅基負(fù)極材料；其特征在于，負(fù)極片制作完成之后鍍一層鍍鋰層。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的鋰離子電池負(fù)極片，其特征在于，鍍鋰層選用高純鋰靶材，純度大于99.95%。
3.?一種如權(quán)利要求1所述的鋰離子電池負(fù)極片的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）??選用所述集流體和所述硅基負(fù)極材料制作的硅基基體極片作為基片；
（2）??在所述基片上沉積鍍鋰層，做成鋰離子電池負(fù)極片。
4.?如權(quán)利要求3所述沉積鍍鋰層，其特征在于，使用磁控濺射法。
5.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁控濺射鍍鋰層的制備方法，其特征在于，工作條件為：本底真空度為1.0×10-5至1.0×10-3Pa；濺射時(shí)工作氣壓為0.1-1.0Pa；氬氣Ar的流量為40-60sccm；濺射功率為1-40W/cm2。
6.?根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁控濺射鍍鋰層的制備方法，其特征在于，所述濺射制備的鍍鋰層厚度在10-2000nm之間。
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