[發明專利]一種用于超光譜成像系統中的消二級光譜集成濾光片

有效

• 申請號: 201410258907.8
• 申請日: 2014-06-12
• 公開（公告）號: CN104090320A
• 公開（公告）日: 2014-10-08
• 發明（設計）人: 段微波;劉銀年;余德明;李大琪;陳剛
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種用于超光譜成像系統中的消二級光譜集成濾光片，在光學基片(1)的一面上制備整個光譜儀工作波段的寬光譜增透膜系(2)，在另一面上制備消二級光譜集成濾光片膜系(3)，其特征在于，所述的消二級光譜集成濾光片膜系(3)的結構如下：在光學基片(1)上劃分n個幾何區域，在這n個幾何區域中分別針對不同光學波段進行二級光譜的抑制；其中：

集成濾光片劃分的區域數n的確定方法如下：

n＝[log₂(λ_L/λ_S)]+1

式中：λ_L和λ_S分別為光譜波段的最長波長和最短波長；[]為取整符號；

各幾何區域二級光譜的抑制譜段劃分確定方法如下：

第1區域譜段波長范圍：λ_L～λ₁，λ₁≤2λ_L；

第2區域譜段波長范圍：λ₁～λ₂，λ₂≤2λ₁；

……

第n-1區域譜段波長范圍：λ_n-2～λ_n-1，λ_n-1≤2λ_n-2；

第n區域譜段波長范圍：λ_n-1～λ_L。