[發明專利]一種二氧化釩薄膜制備方法無效
| 申請號： | 201410258898.2 | 申請日： | 2014-06-12 |
| 公開（公告）號： | CN104032278A | 公開（公告）日： | 2014-09-10 |
| 發明（設計）人： | 王少偉;劉星星;陸衛;俞立明;陳飛良;陳效雙 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海技術物理研究所 |
| 主分類號： | C23C14/58 | 分類號： | C23C14/58;C23C16/56;C23C14/08;C23C16/40 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 氧化 薄膜 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種二氧化釩薄膜的制備方法，其特征在于：步驟如下：
1)在玻璃、石英、寶石或硅片襯底上通過磁控濺射、離子束濺射、化學氣相沉積、真空熱蒸發、電子束蒸發、激光脈沖沉積或溶膠凝膠的方法將金屬釩或低價釩薄膜制備在襯底上；
2)對制備好的金屬釩薄膜或者低價釩薄膜在真空條件下通氧退火得到有相變的二氧化釩薄膜；具體通氧退火參數為：氧氣是氧分壓在5～11000Pa，退火溫度是350～650℃，時間為5～400min。
2.根據權利要求1所述的一種二氧化釩薄膜的制備方法，其特征在于：所述的低價釩為一氧化釩、三氧化二釩、低于和等于四價的釩氧化物相的混合物，或上述的摻雜有4％以下W、Mo、AI、Ti、Nb、Ta或F元素的混合物。
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