[發(fā)明專(zhuān)利]流體分送裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410256207.5
• 申請(qǐng)日: 2014-06-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104226200B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J-F.勒科;D.費(fèi)爾;C.科拉多
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 阿克森斯公司
• 主分類(lèi)號(hào): B01J4/00
• 分類(lèi)號(hào): B01J4/00;B01J19/00;B01J8/00;B01J8/24
• 代理公司: 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;傅永霄

本發(fā)明涉及流體分送裝置(1)，包括：包括開(kāi)口(7)并且具有第一端部(3)和第二端部(4)的至少一個(gè)入口管(2)；蓋(5)，其包括具有透鏡形狀且具有圓形截面的主體(6)，主體(6)由沿入口管(2)的第二端部(4)朝第一端部(3)的方向延伸的裙部(8)伸長(zhǎng)，所述蓋(5)具有外表面和內(nèi)表面，蓋經(jīng)由內(nèi)表面與管的第二端部(4)集成，并且主體(6)設(shè)有多個(gè)孔(10)；并且其中蓋(5)包括至少一個(gè)偏轉(zhuǎn)器件(14)，其設(shè)置在蓋(5)的外表面上，并且構(gòu)造成朝所述蓋(5)的外周或在所述蓋(5)的外周處引導(dǎo)或保持氣體。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于在單相或多相環(huán)境介質(zhì)中分送單相或二相流體的裝置，該單相或多相環(huán)境介質(zhì)具有高于待分送的流體的體積密度的體積密度。

具體而言，本發(fā)明的裝置應(yīng)用于煉油或石化單元中遇到的反應(yīng)器，或用于處理從生物質(zhì)的處理中獲得的進(jìn)料的單元中。

具體而言，本發(fā)明的裝置可用于改進(jìn)液體介質(zhì)或包括流化固體的介質(zhì)中的氣體或氣體混合物的分送。作為實(shí)例，其特別適合于在以下設(shè)備中使用：

·用于FCC(流化催化裂化)過(guò)程的反應(yīng)器；

·用于催化劑再生的反應(yīng)器，例如，用于催化裂化催化劑；

·包括催化劑的流化床的反應(yīng)器；

·以上流模式操作的具有在容器的底部中的用于二相氣體/液體或氣體/固體流的入口的加氫處理或加氫裂化反應(yīng)器；

·漿液反應(yīng)器；

·汽提塔、干燥機(jī)、曝氣器或增濕器。

背景技術(shù)

當(dāng)氣體或氣體混合物必須以均一的方式分送以便確保氣體與為液體或固體的另一相之間的溶解和均勻混合時(shí)，大體上使用氣體分送裝置。

例如，此類(lèi)裝置用于反應(yīng)器的容器中，以便執(zhí)行需要?dú)怏w與液體之間或氣體與流化固體之間的均一分布的反應(yīng)。作為實(shí)例，可引用加氫處理反應(yīng)，其在催化劑存在的情況下使用為氫的氣體和為烴餾分的液體。為了獲得卓越的催化性能和較高的轉(zhuǎn)換，氫必須在二相H₂/烴混合物與催化床接觸之前以均一方式在液態(tài)烴相中分送。

這些裝置還可安裝在反應(yīng)器中，用于使用氣體的催化劑的再生或活化。可引用的實(shí)例為用于通過(guò)氧氯化的再生的過(guò)程，或用于通過(guò)硫化的活化和/或催化劑還原的過(guò)程。

最后，氣體分送器可用于將流化氣體噴射到催化床中，以便將催化劑的顆粒保持在流化狀態(tài)。

文獻(xiàn)US 5 571 482公開(kāi)了用于在其再生期間控制催化劑的溫度的設(shè)備(催化劑冷卻器)。該設(shè)備與兩級(jí)催化劑再生系統(tǒng)一起使用，并且在流化床催化裂化過(guò)程(FCC)的背景下使用。在該文獻(xiàn)中，蘑菇型分送器用于在再生器的流化床的密相中分送催化劑和流化氣體。

參照?qǐng)D1，現(xiàn)有技術(shù)的蘑菇型分送器包括：

·具有第一端部和第二端部的中空氣體入口管，管設(shè)有開(kāi)口以允許經(jīng)由管供應(yīng)的氣體的一部分穿過(guò)；

·蓋，其具有透鏡形圓形截面，并且具有凸形外表面和凹形內(nèi)表面，蓋經(jīng)由內(nèi)凹形表面與所述管的第二端部集成。蓋還設(shè)有通孔，其可允許氣體穿過(guò)，并且還包括在其自由端處的朝中空管的第一端部延伸的圓形裙部。內(nèi)部容積限定為由蓋界定的容積，并且用作待通過(guò)通孔分送的氣體的儲(chǔ)存器。

在操作中，通過(guò)入口管的開(kāi)口散逸的氣體在入口管下方累積直到下緣附近的某一高度。因此，壓差建立在蓋的上面與下面之間，并且等于氣穴的高度(H_gas)乘以氣體與環(huán)境介質(zhì)之間的密度差(rho_ambient- rho_gas)并且乘以重力常數(shù)(g)：

dP = H_gas*(rho_ambient - rho_gas)*g