[發明專利]一種基于激光誘導晶化的非晶硅薄膜太陽能電池器件的制備方法無效
| 申請號: | 201410254559.7 | 申請日: | 2014-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN104037269A | 公開(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發明(設計)人: | 史偉民;匡華慧;黃璐;金晶;陸舒逸;楊偉光;劉進;明秀春 | 申請(專利權)人: | 上海大學 |
| 主分類號: | H01L31/20 | 分類號: | H01L31/20 |
| 代理公司: | 上海上大專利事務所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顧勇華 |
| 地址: | 200444*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 激光 誘導 非晶硅 薄膜 太陽能電池 器件 制備 方法 | ||
1.一種基于激光誘導晶化的非晶硅薄膜太陽能電池器件的制備方法,其特征在于具有以下的過程和步驟:
A.??????采用等離子體化學氣相沉積法,在射頻功率為35W,功率源電容耦合為13.56MHz,襯底氧化銦錫(ITO)導電玻璃的溫度范圍為180~300℃,氣體輝光氣壓范圍為90Pa以下,制備各層非晶硅;其具體工藝參數為:
a.?????????p型層非晶硅的制備:硼烷B2H6與硅烷SiH4質量流量比為0.28%,厚度為20~50nm;
b.????????i型層非晶硅制備:硅烷SiH4與氫氣H2質量流量比為10%,厚度為300~600nm;
c.?????????n型層非晶硅的制備:磷烷PH3與硅烷SiH4質量流量比為0.55%,厚度為30~50nm;
B.?????光學薄膜層多晶硅的制備:使用波長為532nm的倍頻摻釹釔鋁石榴石(Nd:YAG)激光輻照樣品表面,經蠅眼技術整形為平頂綠色激光后晶化n型和p型層非晶硅,實現n型和p型層由非晶硅轉變為多晶硅光學薄膜層,調節激光能量密度為600~1200mJ/cm2;
C.?????陰極導電電極層的制備:使用磁控濺射制備摻鋁氧化鋅導電電極,厚度為15~30nm;
D.????環氧樹脂層封裝層的制備:配制環氧樹脂的透明溶液,澆注薄膜玻璃四周,蓋上上層玻璃蓋子,就得到非晶硅薄膜太陽能電池器件。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





