[發明專利]襯底處理方法及其設備

有效

• 申請號: 201410253690.1
• 申請日: 2014-06-09
• 公開（公告）號: CN104795343B
• 公開（公告）日: 2018-12-04
• 發明（設計）人: 林秀和;佐藤洋平;大口壽史;富田寬
• 申請（專利權）人: 東芝存儲器株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 牛南輝;楊曉光

1.一種襯底處理方法，所述方法包括：

將超純水供應到襯底的表面；

將含HFIP(1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇)溶劑供應到已附著所述超純水的所述襯底的所述表面；

將具有在所述含HFIP溶劑中的溶解性且沸點為100℃或者更高的含PFC(全氟化碳)的第一溶劑供應到已附著所述含HFIP溶劑的所述襯底的所述表面；

將已附著所述第一溶劑的所述襯底引入到室中，用超臨界流體替代在所述襯底的所述表面上的所述第一溶劑，接著，通過減小所述室內的壓力將所述超臨界流體改變為氣體；以及

從所述室取出所述襯底。

2.根據權利要求1的所述襯底處理方法，其中所述超臨界流體是含氟溶劑。

3.根據權利要求1的所述襯底處理方法，其中所述第一溶劑的沸點低于所述超臨界流體的臨界溫度。

4.一種襯底處理設備，所述設備包括：

將超純水供應到襯底的表面的超純水供應部；

將含HFIP(1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇)溶劑供應到已附著所述超純水的所述襯底的所述表面的含HFIP溶劑供應部；

將具有在所述含HFIP溶劑中的溶解性且沸點為100℃或者更高的含PFC(全氟化碳)的第一溶劑供應到已附著所述含HFIP溶劑的所述襯底的所述表面的第一溶劑供應部；以及

超臨界干燥處理單元，其將已附著所述第一溶劑的所述襯底引入到室中，用超臨界流體替代在所述襯底的所述表面上的所述第一溶劑，接著，通過減少所述室內的壓力，將所述超臨界流體改變為氣體。