[發(fā)明專利]一種大面積平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔壓力的控制裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410252214.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104032283A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉良玉;陳暉;禹慶榮;楊彬;蘇衛(wèi)中 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所 |
| 主分類號(hào): | C23C16/52 | 分類號(hào): | C23C16/52 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113 | 代理人: | 馬強(qiáng) |
| 地址: | 410111 湖南*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 大面積 平板 pecvd 設(shè)備 反應(yīng) 壓力 控制 裝置 | ||
1.一種大面積平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔壓力的控制裝置,包括反應(yīng)腔體(7),其特征在于,所述反應(yīng)腔體(7)入口端與送氣系統(tǒng)連通,所述反應(yīng)腔體(7)出口端通過(guò)氣路管道(9)與真空泵(1)連通,所述反應(yīng)腔體(7)與所述真空泵(1)之間的氣路管道(9)上安裝有真空蝶閥(2);所述真空蝶閥(2)、反應(yīng)腔體(7)之間的氣路管道(9)與微調(diào)氣路(10)連通;所述的微調(diào)氣路(10)包括質(zhì)量流量控制器(4)和與所述質(zhì)量流量控制器(4)氣路接口連通的管道;所述的反應(yīng)腔體(7)出口端氣路管道(9)內(nèi)安裝有壓力傳感器(5);所述真空蝶閥(2)的電子執(zhí)行器、質(zhì)量流量控制器(4)、壓力傳感器(5)均與控制器相連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔壓力的控制裝置,其特征在于,所述真空泵(1)與所述真空蝶閥(2)之間的氣路管道(9)上安裝有第一氣動(dòng)閥(11)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大面積平板式PECVD設(shè)備反應(yīng)腔壓力的控制裝置,其特征在于,所述微調(diào)氣路上安裝有第二氣動(dòng)閥(8)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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