[發(fā)明專利]部分覆膜血管支架

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410251137.4
• 申請日: 2014-06-08
• 公開（公告）號: CN103989539A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高峰;徐亞利
• 申請（專利權(quán)）人: 高峰
• 主分類號: A61F2/07
• 分類號: A61F2/07
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及覆膜支架，尤其涉及一種部分覆膜的血管支架。

背景技術(shù)

動脈瘤是一種常見的心腦血管疾病。通常，動脈瘤是由于動脈血管壁在發(fā)生疾病、損傷的情況下或因先天性因素引起的血管壁局部變得薄弱，在承受血流沖擊下，該薄弱處的動脈血管壁向外突出，逐漸擴張，而形成如圓形、半圓形、橢圓形或梭形的囊狀膨大。動脈瘤會在血流的沖擊下不斷生長，壓迫周圍的器官或組織。并且由于血壓增高或其他因素可能引起動脈瘤破裂，發(fā)生急劇出血，從而可能產(chǎn)生生命危險。

動脈瘤可發(fā)生在身體的不同部位，其中比較常見的一種是顱內(nèi)動脈瘤。顱內(nèi)動脈瘤通常是由于腦動脈血管壁的先天性缺陷和腦動脈腔內(nèi)壓力增高引起的，多發(fā)于腦底動脈分叉處。

治療動脈瘤的傳統(tǒng)方法是外科手術(shù)。例如，對于顱內(nèi)動脈瘤，采用開顱顯微外科手術(shù)。其一般采取夾閉方法，即，采用特制的動脈瘤夾，夾閉動脈瘤頸部，并保持載瘤動脈的通暢性。但這種方法對病人創(chuàng)傷大，對醫(yī)生操作要求高，而且有相當大的風險。

為了避免外科手術(shù)所存在的高風險的問題，目前主要采用微創(chuàng)傷血管內(nèi)介入治療方法來治療動脈瘤。例如，采用支架封堵或彈簧圈、液體栓塞等。其中，采用覆膜支架治療動脈瘤效果顯著，其可有效且迅速地將動脈瘤壁與正常血液隔絕，改變瘤內(nèi)的血流狀態(tài)，降低血流對瘤壁的沖擊損傷，促使血栓形成，加速血管病變部位內(nèi)皮化。該方法對病人的創(chuàng)傷小，安全性高，且治療效果良好。

目前，用于治療顱內(nèi)動脈瘤的覆膜血管支架一般為全覆膜支架，是將動脈瘤用覆膜支架覆蓋，使瘤腔與管腔分離，促使瘤腔內(nèi)形成血栓從而達到治療的目的。但是，當動脈瘤周圍有血管分支時，分支血管會被覆膜支架完全覆蓋，導致分支血管閉塞引起缺血等并發(fā)癥。

現(xiàn)有的另一種覆膜支架兩端為裸支架，可以避免植入覆膜支架時覆蓋動脈瘤兩端的分支血管，但是，當分支血管位于動脈瘤同一水平時，則該覆膜支架不能避免堵塞分支血管。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，提供一種部分覆膜血管支架。

本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種部分覆膜血管支架，包括裸支架和覆膜，所述裸支架的局部覆蓋有所述覆膜，所述覆膜占所述裸支架圓周表面積的1/2～3/4；在覆膜的中間水平線上設(shè)有至少一處第一不透X線標記點；在覆膜的左側(cè)邊緣、右側(cè)邊緣、上邊緣或下邊緣設(shè)有至少兩處第二不透X線標記點。

優(yōu)選地，所述第二不透X線標記點為兩處，分別以所述中間水平線為中線對稱設(shè)在左側(cè)邊緣或右側(cè)邊緣。

優(yōu)選地，所述兩處第二不透X線標記點設(shè)在左側(cè)邊緣與上邊緣、下邊緣或右側(cè)邊緣與上邊緣、下邊緣的兩個交界處。

優(yōu)選地，所述第二不透X線標記點為四處，并以兩處為一組，兩組分別設(shè)在所述左側(cè)邊緣和右側(cè)邊緣。

優(yōu)選地，所述四處第二不透X線標記點設(shè)在左側(cè)邊緣、右側(cè)邊緣和覆膜上邊緣、下邊緣的交界處。

優(yōu)選地，所述覆膜的上邊緣、下邊緣與所述裸支架的頂端、底端重合。

優(yōu)選地，所述裸支架的頂端和/或底端部分裸露。

優(yōu)選地，所述覆膜周向占所述裸支架圓周表面積的1/2。

優(yōu)選地，所述覆膜周向占所述裸支架圓周表面積的3/4。

優(yōu)選地，所述裸支架為Z型支架或網(wǎng)格支架。

優(yōu)選地，所述覆膜為聚四乙烯膜。

本發(fā)明將覆膜縱向覆蓋在裸支架上，在裸支架覆膜中間設(shè)置一處不透X線標記點，在覆膜邊緣設(shè)置兩處不透X線標記點，用以確定支架釋放的位置。當動脈瘤同一水平有重要血管分支時，旋轉(zhuǎn)造影觀察動脈瘤與分支血管關(guān)系，將X線垂直于動脈瘤與血管分支連線，釋放支架時將不透X線標記點對齊動脈瘤與分支血管連線中點，保證支架釋放后覆膜側(cè)覆蓋動脈瘤，而裸支架不會覆蓋分支血管。

附圖說明

圖1為本發(fā)明中裸支架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明的正視圖；

圖3為本發(fā)明的側(cè)視圖；

圖4為本發(fā)明中裸支架覆蓋3/4覆膜的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明中第二不透X線標記點位于覆膜左側(cè)邊緣的展開圖；

圖6為本發(fā)明第二不透X線標記點位于覆膜右側(cè)邊緣的展開圖；

圖7為本發(fā)明第二不透X線標記點位于覆膜上邊緣的展開圖；

圖8為本發(fā)明第二不透X線標記點位于覆膜下邊緣的展開圖；

圖9為本發(fā)明覆膜四個邊緣均設(shè)第二不透X線標記點的展開圖；

圖10為本發(fā)明覆膜位于裸支架中間位置的示意圖；

圖11為本發(fā)明覆膜下邊緣距裸支架底端有一定距離的示意圖；