[發明專利]帶隔離件的粘合劑層、其制造方法以及帶有帶隔離件的粘合劑層的光學膜有效
| 申請號： | 201410250050.5 | 申請日： | 2014-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN104231959B | 公開（公告）日： | 2018-11-20 |
| 發明（設計）人： | 保井淳;外山雄祐;石井孝證;藤田昌邦 | 申請（專利權）人： | 日東電工株式會社 |
| 主分類號： | C09J7/20 | 分類號： | C09J7/20;C09J7/30;C09J133/08;C09J11/06;G02B1/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 隔離件 粘合劑層 脫模層 離子性化合物 低聚物 基材膜 粘合劑組合物 基礎聚合物 表面電阻 依次設置 防止層 光學膜 制造 | ||
1.一種帶隔離件的粘合劑層，其在隔離件上具有粘合劑層，其特征在于，
所述隔離件中，在基材膜上依次設置有低聚物防止層、脫模層，并且，所述脫模層的表面電阻值為1.0×1013Ω/□以上，
所述低聚物防止層是僅由二氧化硅系材料形成的層，
所述粘合劑層由含有基礎聚合物及離子性化合物的粘合劑組合物形成，且設置于所述隔離件的脫模層。
2.根據權利要求1所述的帶隔離件的粘合劑層，其特征在于，所述離子性化合物為堿金屬鹽和/或有機陽離子-陰離子鹽。
3.根據權利要求1或2所述的帶隔離件的粘合劑層，其特征在于，所述基礎聚合物為(甲基)丙烯酸系聚合物。
4.根據權利要求1或2所述的帶隔離件的粘合劑層，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羥基單體作為單體單元。
5.根據權利要求1或2所述的帶隔離件的粘合劑層，其特征在于，所述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯及含羧基單體作為單體單元。
6.一種帶隔離件的粘合劑層的制造方法，其是制造權利要求1～5中任一項所述的帶隔離件的粘合劑層的方法，其特征在于，
該方法包括下述工序：
在隔離件的脫模層上涂布含有基礎聚合物及離子性化合物的粘合劑組合物的溶液的工序，所述隔離件中，在基材膜上依次設置有低聚物防止層、脫模層，且所述脫模層的表面電阻值為1.0×1013Ω/□以上；以及
于140℃以上的溫度對所述涂布的粘合劑組合物的溶液進行加熱的工序。
7.一種帶有帶隔離件的粘合劑層的光學膜，其特征在于，在光學膜的至少一面粘貼有權利要求1～5中任一項所述的帶隔離件的粘合劑層。
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