[發(fā)明專利]固結(jié)磨料與游離磨料相結(jié)合的硬質(zhì)合金球研磨加工方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410249966.9
• 申請(qǐng)日: 2014-06-09
• 公開（公告）號(hào): CN104015120A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫玉利;呂程昶;左敦穩(wěn);朱永偉;盧文壯;李軍;劉恒俊;張超;危崇敏;鄭錦坤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B37/025
• 分類號(hào): B24B37/025;B24B29/04
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 32218
• 代理人: 瞿網(wǎng)蘭

1.一種固結(jié)磨料與游離磨料相結(jié)合的硬質(zhì)合金球研磨加工方法，其特征是它包括固結(jié)磨料粗研磨、固結(jié)磨料精研磨和和游離磨料拋光；

固結(jié)磨料粗研磨時(shí)，將硬質(zhì)合金球坯放入下盤的研磨槽中，并為每個(gè)硬質(zhì)合金球坯套上隔離環(huán)，在上盤的研磨面上安裝粒度不大于14μm的金剛石固結(jié)磨料研磨墊，控制金剛石固結(jié)磨料研磨墊與硬質(zhì)合金球坯之間的接觸壓力為8~12N，研磨過(guò)程中控制下盤的轉(zhuǎn)速為上盤轉(zhuǎn)速的3-4倍，并控制研磨液的pH值在8~10之間，研磨液溫度控制在20~30℃之間，連續(xù)研磨2~3小時(shí)，完成硬質(zhì)合金球坯的粗研磨；

固結(jié)磨料精研磨時(shí)，將上盤上安裝的粒度不大于14μm的金剛石固結(jié)磨料研磨墊更換為粒度不大于7μm的金剛石固結(jié)磨料研磨墊，控制金剛石固結(jié)磨料研磨墊與硬質(zhì)合金球坯之間的接觸壓力為為3~6N，研磨過(guò)程中控制下盤的轉(zhuǎn)速為上盤轉(zhuǎn)速的4-5倍，控制研磨液的pH值在8~10之間，研磨液溫度在20~30℃之間，研磨4~5小時(shí)完成硬質(zhì)合金球坯的精研磨；?

游離磨料拋光時(shí)，采用不帶金剛石固結(jié)磨料研磨墊的上盤作為拋光上盤，將經(jīng)過(guò)精研磨的硬質(zhì)合金球放入下盤的研磨槽中并套上隔離環(huán)，控制拋光上盤與硬質(zhì)合金球之間的壓力為0.5~1N，使下盤轉(zhuǎn)速為上盤轉(zhuǎn)速的2-3，加入由粒度不大于0.5μm的金剛石微粉和去離子水按1:?9~12比例配置而成的、pH值在8~10之間的拋光液，在20~30℃之間拋光10~12小時(shí)，即可得到滿足精度要求的硬質(zhì)合金球。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工方法，其特征是粗研磨和精研磨時(shí)所用的研磨液為去離子水。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工方法，其特征是所述的研磨液與拋光液的pH值調(diào)節(jié)劑為氫氧化鈉、氫氧化鉀、三乙醇胺、四經(jīng)基乙二胺、四甲基氫氧化胺中的一種或一種以上組合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加工方法，其特征是所述的下盤采用蠕墨鑄鐵盤、銅盤或鋁合金盤并開有槽形角為45°的V形研磨槽，拋光上盤采用304不銹鋼盤并開有與球坯直徑相仿的圓弧拋光槽，所述的研磨槽或拋光槽所在圓的圓心與下盤圓心的偏心距為研磨槽或拋光槽所在圓的直徑的12-16%。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征是所述研磨槽或拋光槽所在圓的直徑為55mm，與下盤圓心的偏心距為8mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是粗研磨時(shí)下盤的轉(zhuǎn)速為180~200rpm，上盤的轉(zhuǎn)速為50~60rpm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是精研磨時(shí)下盤轉(zhuǎn)速為180~200rpm，上盤轉(zhuǎn)速為40~50rpm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征是拋光時(shí)下盤轉(zhuǎn)速為120~150rpm，上盤轉(zhuǎn)速為50~70rpm。