[發(fā)明專(zhuān)利]硅材料頂層硅楊氏模量和殘余應(yīng)力的測(cè)試結(jié)構(gòu)及測(cè)試方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410247627.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103995022A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周再發(fā);高適萱;黃慶安;李偉華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東南大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N27/00 | 分類(lèi)號(hào): | G01N27/00 |
| 代理公司: | 江蘇永衡昭輝律師事務(wù)所 32250 | 代理人: | 王斌 |
| 地址: | 210096*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 材料 頂層 硅楊氏模量 殘余 應(yīng)力 測(cè)試 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種硅材料頂層硅楊氏模量和殘余應(yīng)力的測(cè)試結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:?SOI硅片,所述SOI硅片包括底層硅材料(108),在底層硅材料(108)上設(shè)有中間二氧化硅層,在中間二氧化硅層上設(shè)有頂層硅,在底層硅材料(108)有刻蝕中間二氧化硅層形成的第一錨區(qū)絕緣介質(zhì)層(101)、第二錨區(qū)絕緣介質(zhì)層(103)和電極絕緣介質(zhì)層(104),在第一錨區(qū)絕緣介質(zhì)層(102)、第二錨區(qū)絕緣介質(zhì)層(103)和電極絕緣介質(zhì)層(104)上分別設(shè)有刻蝕頂層硅形成的第一錨區(qū)(106)、第二錨區(qū)(107)和電極(105),在底層硅材料(108)的上方設(shè)有刻蝕頂層硅形成的雙端固支梁(101),且通過(guò)雙端固支梁(101)與底層硅材料(108)之間的中間二氧化硅層的釋放使雙端固支梁(101)懸浮于底層硅材料(108)的上方,所述雙端固支梁(101)與所述電極(105)相面對(duì)。
2.一種硅材料頂層硅楊氏模量和殘余應(yīng)力的測(cè)試方法,其特征在于,包括以下步驟:
a、把待測(cè)的具有硅材料頂層硅楊氏模量和殘余應(yīng)力測(cè)試結(jié)構(gòu)的樣片放在半導(dǎo)體分析儀的探針臺(tái)上,調(diào)節(jié)半導(dǎo)體分析儀在二極管模式,通過(guò)在電極(105)與第一錨區(qū)(106)或第二錨區(qū)(107)之間施加電壓,使電壓加載在所述雙端固支梁(101)與所述電極(105)之間,為了使雙端固支梁發(fā)生準(zhǔn)靜態(tài)變化,將電壓設(shè)定在0.0V開(kāi)始,電壓增長(zhǎng)的步長(zhǎng)設(shè)定在0.1V,當(dāng)雙端固支梁被靜電引力突然拉到固定電極上時(shí),半導(dǎo)體分析儀會(huì)停止增加電壓,記錄下該吸合電壓;
b、按照步驟a,測(cè)出兩組不同長(zhǎng)度的雙端固支梁的吸合電壓,并把測(cè)出的兩組吸合電壓值分別代入描述吸合電壓、楊氏模量和殘余應(yīng)力關(guān)系的數(shù)學(xué)模型,可以得到一組二元方程組,通過(guò)聯(lián)立求解二元方程組,計(jì)算出絕緣襯底上的硅材料頂層硅的楊氏模量和殘余應(yīng)力。
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