[發明專利]一種摻鉺氮化鋅薄膜光波導及制備方法

有效

• 申請號: 201410246159.1
• 申請日: 2014-06-05
• 公開（公告）號: CN104007510A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: 王鳳翔;孫舒寧;付剛;陳志華;李雙
• 申請（專利權）人: 山東建筑大學
• 主分類號: G02B6/134
• 分類號: G02B6/134;G02B6/122;G02B6/13
• 代理公司: 濟南泉城專利商標事務所 37218
• 代理人: 張菡

1.一種摻鉺氮化鋅薄膜光波導的制備方法，其特征在于，步驟如下：

（1）對石英玻璃基底的氮化鋅薄膜進行光學表面拋光處理，然后清洗、烘干；氮化鋅薄膜厚度為100-800nm；

（2）將步驟（1）處理后的氮化鋅薄膜放入真空度為10^-4Pa的加速器靶室內，進行鉺離子注入氮化鋅薄膜過程，得到摻鉺氮化鋅薄膜樣品；輻照能量300-600KeV，注入劑量10¹⁴-10¹⁵ions/cm²，束流密度0.3-0.8μA/cm²；氮化鋅薄膜表面法線方向與入射離子束方向的夾角為7°；???????

（3）將摻鉺氮化鋅薄膜樣品置于氮化爐內在氮氣中進行退火處理，得產品；退火溫度300-800℃，退火過程中持續充入氮氣的量為300-600sccm，退火時間0.5-2.5h。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所用注入劑量為5×10¹⁵ions/cm²。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，輻照能量為500Kev。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述退火溫度為400℃。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，氮氣的量為500sccm。

6.一種由權利要求1-5中任意一項所述方法制備的摻鉺氮化鋅薄膜光波導，以石英玻璃基底和摻鉺氮化鋅薄膜上方的空氣為包層，以摻鉺氮化鋅薄膜為芯層。

7.根據權利要求6所述的摻鉺氮化鋅薄膜光波導，其特征在于，所述摻鉺氮化鋅薄膜中鉺離子輻照深度為50-200nm。

8.根據權利要求6所述的摻鉺氮化鋅薄膜光波導，其特征在于，所述摻鉺氮化鋅薄膜中鉺離子濃度峰值半高寬之間的距離占總濃度分布距離的比例為25-45％。