1.一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒?步驟包括建立模型箱(1)，配料和填料，其特征在于：

所述模型箱(1)包括底座(101)、邊框(102)、前玻璃擋板(103)和后鋼擋板(104)；

在所述邊框(102)下端左右兩邊各成型有一個(gè)孔，分別為進(jìn)水孔和排水孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒ǎ涮卣髟谟冢核雠淞习ㄈ缦虏僮鳎?/p>

(a)根據(jù)模擬比例，計(jì)算確定模擬水浸基底層(2)和模擬排土分層(3)的材料所需質(zhì)量；

(b)將模擬材料以及水用天平、量杯稱好；

(c)用于模擬所述水浸基底層(2)的材料加入紅色顏料，用于模擬所述排土分層(3)的材料取其他顏色進(jìn)行區(qū)分，便于監(jiān)測(cè)；

(d)將配好的材料進(jìn)行攪拌，使混合充分，然后再加入所需配比的水，并迅速攪拌均勻；

(e)將攪拌好的材料按所述水浸基底層(2)和不同所述排土分層(3)區(qū)分，分別盛放于相應(yīng)容器內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒ǎ涮卣髟谟冢核鎏盍习ㄈ缦虏僮鳎?/p>

(a)將配好的模擬所述水浸基底層(2)的材料倒入所述模型箱(1)內(nèi)，按預(yù)先確定的厚度填筑完成所述水浸基底層(2)；

(b)按從下到上的順序依次將模擬不同所述排土分層(3)的材料填筑到所述模型箱(1)內(nèi)；

在進(jìn)行操作(a)和(b)時(shí)，不同模擬層之間撒一層白色泡沫塑料以進(jìn)一步區(qū)分，并設(shè)置位移監(jiān)測(cè)基點(diǎn)(4)，及時(shí)記錄其各所述位移監(jiān)測(cè)基點(diǎn)(4)位置，同時(shí)分別取樣測(cè)試各模擬材料物理力學(xué)指標(biāo)，檢驗(yàn)其是否滿足設(shè)計(jì)指標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒ǎ涮卣髟谟冢河糜谀M所述水浸基底層(2)和所述各排土分層(3)的材料含有重晶石粉、石英砂和石膏。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒?，其特征在于：所述模型?1)還包括進(jìn)水管(5)和排水管(6)，所述進(jìn)水管(5)穿過所述進(jìn)水孔進(jìn)入所述水浸基底層(2)，所述排水管(6)穿過所述排水孔進(jìn)入所述水浸基底層(2)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒?，其特征在于：所述進(jìn)水孔位于所述水浸基底層(2)上部，所述排水孔位于所述水浸基底層(2)下部。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒ǎ涮卣髟谟冢核瞿Ｐ拖?1)長(zhǎng)為2m，高為1m，寬為0.4m。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒?，其特征在于：所述水浸基底?2)厚度為95-105mm，所述排土分層(3)共五層，從下到上厚度依次為75mm，100mm，100mm，100mm,100mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種基底處于水浸條件下排土場(chǎng)邊坡變形相似實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ偷闹谱鞣椒?，其特征在于：所述進(jìn)水管進(jìn)入所述水浸基底層(2)的長(zhǎng)度不超過所述水浸基底層(2)厚度的3倍，所述排水管進(jìn)入所述水浸基底層(2)的長(zhǎng)度不超過所述水浸基底層(2)厚度的1倍。