[發明專利]磁盤裝置以及控制方法

在審

• 申請號: 201410244789.5
• 申請日: 2014-06-04
• 公開（公告）號: CN104835509A
• 公開（公告）日: 2015-08-12
• 發明（設計）人: 磯川博
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: G11B5/02
• 分類號: G11B5/02;G11B5/58
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 陳海紅;段承恩

相關申請?

本申請享受將日本專利申請2014-21657號(申請日：2014年2月6日)作為在先申請的優先權。本申請通過參照該在先申請而包含其全部內容。?

技術領域

本發明的實施方式涉及磁盤裝置以及控制方法。?

背景技術

近年來，作為能夠實現1T位/英寸2級別的高密度磁記錄的技術，熱輔助記錄方式受到矚目。熱輔助記錄方式，通過近場光元件將由光源(激光二極管)產生的激光轉換成近場光并照射磁盤的表面的一部分，局部提高磁盤的溫度。而且，通過磁場產生元件向磁盤中的溫度上升了的部分施加磁場而以磁性方式記錄數據。此時，期望提高數據的可靠性。?

發明內容

1個實施方式的目的在于提供例如能夠提高數據的可靠性的磁盤裝置。?

根據1個實施方式，提供一種具有光源、光照射元件和控制器的磁盤裝置。光照射元件接受來自光源的光并向磁盤照射光。控制器與應寫入磁盤的數據的脈沖寬度相應地，在第1控制與第2控制之間切換。在第1控制下，將光源的輸出維持為第1值。在第2控制下，使光源的輸出在第1值與第2值之間周期性變動。第2值比第1值低。?

附圖說明

圖1是表示實施方式涉及的磁盤裝置的結構的圖。?

圖2是表示與實施方式中的RDC相關聯的結構的圖。?

圖3是表示實施方式中的RDC的結構的圖。?

圖4是表示實施方式中的前置放大器的構成的圖。?

圖5是表示實施方式涉及的磁盤裝置的工作的波形圖。?

圖6是表示實施方式涉及的磁盤裝置的工作的流程圖。?

圖7是用于說明實施方式中的頻率特性的影響的圖。?

圖8是用于說明實施方式的效果的圖。?

圖9是用于說明實施方式的效果的圖。?

圖10是用于說明實施方式的效果的圖。?

圖11是用于說明實施方式的效果的圖。?

圖12是表示實施方式的變形例涉及的磁盤裝置的工作的波形圖。?

圖13是表示實施方式的其他變形例涉及的磁盤裝置的工作的波形圖。?

具體實施方式

以下參照附圖對實施方式涉及的磁盤裝置進行詳細說明。另外，本發明并不由本實施方式限定。?

(實施方式)?

利用圖1以及圖2對實施方式涉及的磁盤裝置100的概要進行說明。圖1是表示實施方式涉及的磁盤裝置的結構的圖。圖2是表示與實施方式涉及的磁盤裝置的數據記錄相關聯的結構的圖。?

磁盤50是記錄各種信息的圓盤狀記錄介質，受主軸電機103驅動而旋轉。磁盤50具有在相對于表面垂直方向上具有各向異性的垂直記錄層。磁盤50具有例如以主軸電機103的旋轉中心附近為中心的同心圓狀的多條磁道。?

對磁盤50的讀寫由經由頭滑架104設置于頭支撐機構即臂107的一頂端的磁頭5進行。磁頭5包含記錄頭5w以及再現頭5r。?

記錄頭5w，一邊通過由磁盤50的旋轉產生的升力而維持從磁盤50的表面稍稍懸浮的狀態，一邊沿磁道下行(down?track)方向相對于磁盤50的表面相對移動，通過磁場產生元件5d向磁盤50記錄信息。?

此時，在記錄頭5w，根據熱輔助記錄方式，通過波導5b將由光源(例如，LD：激光二極管)5a產生的激光向近場光元件(光照射元件)5c引導，并通過近場光元件5c將激光轉換成近場光。在記錄頭5w，將轉換后的近場光從近場光元件5c向磁盤50表面的一部分照射而局部提升磁盤50的溫度，用磁場產生元件5d向溫度上升了的部分施加磁場而磁記錄信息。例如，磁場產生元件5d一邊根據應寫入數據的電平為1或0使磁化的磁場的方向逆轉一邊向磁盤50寫入數據。即，記錄頭5w用于對磁盤50實施利用熱輔助記錄方式的寫工作。?

另外，光源5a只要構成為能夠經由波導5b向近場光元件(光照射元件)5c供給激光，也可以設置于磁頭5外部。?

再現頭5r，一邊通過由磁盤50的旋轉產生的升力而維持從磁盤50的表面稍稍懸浮的狀態，一邊沿下行磁道方向相對于磁盤50的表面相對移動，用磁阻元件5e讀出記錄于磁盤50的信息。即，再現頭5r用于針對磁盤50的讀工作。?