[發(fā)明專利]半導(dǎo)體集成電路器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410244636.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104242926B | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 槙山秀樹;巖松俊明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瑞薩電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H03L7/099 | 分類號(hào): | H03L7/099 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;王娟娟 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板偏壓 半導(dǎo)體集成電路器件 施加 電流監(jiān)控電路 速度監(jiān)控電路 溝道 延遲 電路 流動(dòng) | ||
1.一種半導(dǎo)體集成電路器件,其特征在于,具有:
主電路,其包含第1溝道型的第1MISFET、與所述第1溝道型不同的第2溝道型的第2MISFET、和與所述第2MISFET串聯(lián)連接的所述第2溝道型的第3MISFET;以及
控制電路,其以向所述第1MISFET施加第1基板偏壓電壓、向所述第2MISFET及所述第3MISFET施加第2基板偏壓電壓的方式進(jìn)行控制,
所述控制電路具有:
具有第1反相電路的第1延遲電路,該第1反相電路包含所述第1溝道型的第4MISFET;
第1電流監(jiān)控電路,其包含所述第1溝道型的第5MISFET、所述第2溝道型的第6MISFET、和與所述第6MISFET串聯(lián)連接的所述第2溝道型的第7MISFET,該第1電流監(jiān)控電路對(duì)在所述第5MISFET中流動(dòng)的第1電流、和在所述第6MISFET及所述第7MISFET中流動(dòng)的第2電流進(jìn)行監(jiān)控;以及
電壓產(chǎn)生電路,其產(chǎn)生所述第1基板偏壓電壓和所述第2基板偏壓電壓,
所述控制電路,
使通過所述電壓產(chǎn)生電路產(chǎn)生所述第1基板偏壓電壓并施加于所述第4MISFET,
基于將所述第1基板偏壓電壓施加于所述第4MISFET的狀態(tài)下的所述第1延遲電路的第1延遲時(shí)間,來確定所述第1基板偏壓電壓的第1電壓值,
使通過所述電壓產(chǎn)生電路產(chǎn)生被設(shè)定成所述第1電壓值的所述第1基板偏壓電壓并施加于所述第5MISFET,
通過所述第1電流監(jiān)控電路獲取在施加有被設(shè)定成所述第1電壓值的所述第1基板偏壓電壓的狀態(tài)下在所述第5MISFET中流動(dòng)的所述第1電流,
使通過所述電壓產(chǎn)生電路產(chǎn)生所述第2基板偏壓電壓并施加于所述第6MISFET及所述第7MISFET,
通過所述第1電流監(jiān)控電路獲取在施加有所述第2基板偏壓電壓的狀態(tài)下在所述第6MISFET及所述第7MISFET中流動(dòng)的所述第2電流,
基于所獲取的所述第1電流及所獲取的所述第2電流來確定所述第2基板偏壓電壓的第2電壓值,
以通過所述電壓產(chǎn)生電路產(chǎn)生被設(shè)定成所述第1電壓值的所述第1基板偏壓電壓并施加于所述第1MISFET、且通過所述電壓產(chǎn)生電路產(chǎn)生被設(shè)定成所述第2電壓值的所述第2基板偏壓電壓并施加于所述第2MISFET及所述第3MISFET的方式進(jìn)行控制。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其特征在于,
所述控制電路以使所述第1延遲時(shí)間成為與所述主電路的第2延遲時(shí)間的第1目標(biāo)時(shí)間不同的第2目標(biāo)時(shí)間的方式來確定所述第1電壓值,且以使第1計(jì)算值成為根據(jù)所述第1目標(biāo)時(shí)間而設(shè)定的第1設(shè)定值的方式來確定所述第2電壓值,其中,所述第1計(jì)算值根據(jù)所獲取的所述第1電流及所獲取的所述第2電流各自的倒數(shù)之和而計(jì)算出。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其特征在于,
所述第1溝道型為p溝道型,
所述第2溝道型為n溝道型,
所述主電路具有NAND電路,
所述NAND電路包含所述第1MISFET、所述第2MISFET、所述第3MISFET、和與所述第1MISFET并聯(lián)連接的p溝道型的第8MISFET。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體集成電路器件,其特征在于,
所述第5MISFET的源電極與電源連接,
所述第5MISFET的漏電極接地,
所述第6MISFET的漏電極與所述電源連接,
所述第6MISFET的源電極與所述第7MISFET的漏電極連接,
所述第7MISFET的源電極接地。
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