[發明專利]具有凸起顆粒效果的瓷磚及其制備方法

有效

• 申請號: 201410243309.3
• 申請日: 2014-06-03
• 公開（公告）號: CN104016728A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 謝志軍;李惠文;李國平;梁超成;朱敬賢
• 申請（專利權）人: 廣東蒙娜麗莎新型材料集團有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;C04B41/86
• 代理公司: 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261
• 代理人: 曹芳玲;鄭優麗

技術領域

本發明涉及瓷磚生產制造技術領域，尤其涉及一種采用直線淋釉器淋干粒的方式來產生凸起效果的瓷磚的制備技術。

背景技術

瓷磚的表面的立體效果及耐磨防滑性能越來越引起了社會的廣泛關注，制備具有凸起顆粒效果的瓷磚是目前瓷磚制備的熱點之一。

目前制備具有凸起顆粒效果的瓷磚通常有三種方法：1)使用凹凸模具；2)在磚坯表面甩點或打點；以及3)在磚坯表面施加干粒。對于方法1)，在生產平面產品和凹凸產品轉換時，需要更換生產線上模具，影響生產進度，而且該方法需要配備多種凹凸模具，成本高。對于方法2)，通過普通甩點或者絲網印花產生的點往往效果不佳。對于方法3)，目前常用通過干粒撒施法再配以固定液完成，這種方法形成的干粒圖案色彩單一，立體效果差，且布料不均，易產生表面缺陷。

此外，本發明人也注意到將干粒施加在磚坯表面后進行燒成，高溫燒成中往往會出現面釉熔融、塌陷等導致干粒熔入面釉中最終干粒凸起效果不佳。

發明內容

面對現有技術存在的問題，本發明人通過采用直線淋釉器淋干粒，并且選用具有規定配方的面釉，以使干粒燒成后不會被熔平而仍保持較好的凸起效果。

本發明提供一種通過淋干粒制備具有凸起顆粒效果的瓷磚的方法，所述方法包括：在坯體上施加具有規定配方的面釉，所述面釉開始燒成的溫度為1120℃以上，按重量計，所述面釉中SiO₂的含量為57％以上，Al₂O₃的含量為22％以上；以及通過直線淋釉器將干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，所述干粒釉漿的比重為1.27～1.38g/mL。

本發明中，采用具有規定配方的面釉(SiO₂的含量為57％以上，Al₂O₃的含量為22％以上)，其具有較高的燒成溫度(開始燒成的溫度為1120℃以上)，在后續燒成中不會出現面釉熔融、塌陷等情況，從而保證干粒燒成后不會被熔平；而且規定配方的面釉適合噴墨墨水發色，制得瓷磚色彩和圖案豐富。此外，通過直線淋釉器將比重為1.27～1.38g/mL的干粒釉漿施于已施好面釉的坯體上，可在產品表面形成薄薄的一層均勻干粒，經過高溫燒成后干粒自動聚積均勻的半球狀透明顆粒，相對于普通甩點或者絲網印花產生的點，具有更好的均勻性和更大的潤濕角度。

較佳地，面釉中堿土金屬氧化物和/或堿金屬氧化的含量為7.8wt％以下。采用該配方的面釉的燒成溫度高，且適合噴墨墨水發色。

作為優選的示例，面釉可包括57～62％SiO₂、22～25wt％Al₂O₃、0.1～0.5％CaO、0.2～0.4％MgO、3.5～4.2％K₂O和2.3～2.7wt％Na₂O。

較佳地，干粒釉漿可包括30～35wt％干粒，干粒的粒度可為60～200目，優選150～200目。干粒細度太粗則會容易在漿料沉淀使淋釉不均，細度太細則燒成后聚集成的顆粒感不強。用這種細度和配比的干粒經過高溫燒成后能在產品表面形成分布均勻、大小一致的凸起顆粒，在燈光下看顯現出柔和的珍珠般光澤，顆粒的形狀接近半球型，潤濕角度可達70度，用手觸摸非常自然舒適。

本發明中，干粒可以高溫熔塊為原料，所述高溫熔塊由以下重量配比的組分組成：50～55％SiO₂、20～24％Al₂O₃、0.2～0.5％Fe₂O₃、0.5～1.2％CaO、0.4～0.7％MgO、2.0～2.8％K₂O、2.9～3.8％Na₂O。本發明可以高溫熔塊為原料，經過破碎和過篩即可制得可用的干粒，來源豐富，制備簡單。

較佳地，干粒釉漿的分散懸浮載體可為流速為24～30秒的印油。使用了流速為24～30秒的印油作為分散懸浮載體，再按上述的比例配成干粒釉漿后，釉漿的流動性好并且粘度大，干粒粒子不容易沉淀，具備可淋釉的性能，適合采用直線淋釉器來施干粒。如果印油的流速太小則懸浮效果不足，干粒就容易沉淀，導致施于磚面的粒子隨著時間的推移越來越少，最終影響磚面顆粒效果；而印油的流速太大則會使干粒粒子產生團聚而難于分散，燒成后顆粒成團熔融、顆粒感差，光澤不均衡。

較佳地，干粒釉漿可包括2～5％固定劑。加入一定比例的固定劑能增強干粒與面釉之間的粘結，在燒成的過程中不易被窯爐抽風抽走。