[發明專利]制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法有效
| 申請號： | 201410242295.3 | 申請日： | 2014-06-03 |
| 公開（公告）號： | CN104004990A | 公開（公告）日： | 2014-08-27 |
| 發明（設計）人： | 王咸海;洪瑞金;脫文剛;張大偉;陶春先 | 申請（專利權）人： | 上海理工大學 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海德昭知識產權代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 200093 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制備 晶態 透明 氧化鋅 薄膜 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法，其特征在于，包括以下步驟：
襯底清洗：依次使用丙酮、無水乙醇、去離子水清洗襯底后放入磁控濺射室樣品架上；
設置重金屬摻雜：取鉬絲固定在鋅靶上，鉬絲分布形狀為圓心輻射狀，鉬摻雜量控制在0.5-10％范圍內；
抽取真空：將所述磁控濺射室抽真空；
調節濺射氣氛：分別以氧氣和氬氣作為反應氣體和濺射氣體輸入所述磁控濺射室，氧氣純度為99.99％，氬氣純度在99.95％以上，氧氣流量與氬氣流量的比值控制在3：2至4：1之間；
磁控濺射生長：使用60W的濺射功率，在0.8pa、室溫條件下，先對所述鋅靶預濺射5min，然后進行反應濺射生長鉬摻雜的氧化鋅薄膜。
2.根據權利要求1所述的制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法，其特征在于：
其中，所述氧氣的流量為30～80sccm之間，所述氬氣流量控制為20sccm。
3.根據權利要求1所述的制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法，其特征在于：
其中，抽取真空步驟中抽真空所達到的真空度為2×10-4Pa以上。
4.根據權利要求1所述的制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法，其特征在于：
其中，所述氬氣的工作氣壓為10-2～10-1Pa。
5.根據權利要求1所述的制備非晶態透明氧化鋅薄膜的方法，其特征在于：
其中，所述襯底可以選自石英、玻璃、晶體、塑料和硅片中的任意一種。
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