[發明專利]處理圖像的方法、裝置及終端

在審

• 申請號: 201410240615.1
• 申請日: 2014-05-30
• 公開（公告）號: CN104063842A
• 公開（公告）日: 2014-09-24
• 發明（設計）人: 王琳;張波;陳志軍
• 申請（專利權）人: 小米科技有限責任公司
• 主分類號: G06T3/00
• 分類號: G06T3/00
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 劉映東

1.一種處理圖像的方法，其特征在于，所述方法包括：

定位圖像中的臉部區域，獲得所述臉部區域對應的至少一個源特征點；

根據獲得的每個源特征點確定表征所述臉部區域的輪廓特征的至少一種調節參數；

根據每種調節參數與對應的預先設定的標準參數確定所述每個源特征點對應的目標特征點；

根據每個源特征點和每個目標特征點對所述臉部區域進行臉部變形處理，得到處理后的圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據獲得的每個源特征點確定表征所述臉部區域的輪廓特征的至少一種調節參數，包括：

根據獲得的每個源特征點確定所述臉部區域對應的至少兩個特征參數；

根據獲得的至少兩個特征參數確定表征所述臉部區域的輪廓特征的至少一種調節參數。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據獲得的每個源特征點確定表征所述臉部區域的輪廓特征的至少一種調節參數之后，還包括：

確定每種調節參數與每種調節參數的上限值及下限值的關系，如果每種調節參數大于每種調節參數的下限值，且小于每種調節參數的上限值，則執行根據每種調節參數與對應的預先設定的標準參數確定所述每個源特征點對應的目標特征點的步驟。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述確定每種調節參數與每種調節參數的上限值及下限值的關系之后，還包括：

如果任意一種調節參數大于所述每種調節參數的上限值，則確定所述調節參數的調整變化量為第一調整值，并根據所述第一調整值確定所述調節參數的每個源特征點對應的目標特征點；

如果任意一種調節參數小于所述每種調節參數的下限值，則確定所述調節參數的調整變化量為第二調整值，并根據所述第二調整值確定所述調節參數的每個源特征點對應的目標特征點。

5.根據權利要求1至4中任一權利要求所述的方法，其特征在于，所述根據每種調節參數與對應的預先設定的標準參數確定所述每個源特征點對應的目標特征點，包括：

根據每種調節參數與對應的預先設定的標準參數之間的差值確定每種調節參數的調整變化量；

根據每種調節參數的調整變化量調整每種調節參數，得到調整后的調節參數，并根據每種調整后的調節參數對每個源特征點的位置進行調節；

將位于每個源特征點的位置所對應的調節后的位置上的點作為每個源特征點對應的目標特征點。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述每種調節參數與對應的預先設定的標準參數之間的差值和所述每種調節參數的調整變化量呈線性關系。