[發明專利]提升閥組件在審
| 申請號: | 201410236410.6 | 申請日: | 2014-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN104896123A | 公開(公告)日: | 2015-09-09 |
| 發明(設計)人: | 里克·亨夫林;米哈伊爾·德明 | 申請(專利權)人: | JC卡特有限責任公司 |
| 主分類號: | F16K1/32 | 分類號: | F16K1/32;F16K27/02;F16H41/24 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 余剛;李靜 |
| 地址: | 美國俄*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 提升 組件 | ||
技術領域
本公開涉及一種液力耦合器(fluid?coupling),并且更特別地涉及一種遇到惡劣環境的液力耦合器,在該惡劣環境(例如,低溫環境)中可遇到污染物和冰,并且涉及一種用于在該耦合器中使用的改良式提升閥。
背景技術
US5,529,155涉及由本公開的受讓人共同擁有的低溫液力耦合器,并且該公開的全部內容通過引證結合于此。低溫環境(例如,低于-150℃的溫度)要求液力耦合器和閥、止回閥、噴嘴或提升閥裝置在這些極端溫度下保持可操作性。如將領會到的,任何水分在這些溫度下將快速凝固并且變成對于機械地移動的部件的正確操作的潛在障礙物。共同擁有的’155專利已成為商業上成功的耦合器,該耦合器已服務于該行業數年。
然而,存在更進一步減少提升閥的不充分密封的可能性的需要。例如,人們認為,控制內腔體的尺寸、最小化接觸面積同時維持充分的導向/刮削、和/或提供充分的洗流(washflow)或通流是改良的潛在領域。
發明內容
一種適于低溫環境的提升閥組件,該提升閥組件包括殼體,該殼體具有形成腔體的內表面、與腔體連通的入口和出口、以及形成在殼體腔體中的密封表面。提升閥被接收在殼體中并且相對于殼體選擇性地移動以控制在入口與出口之間的流動。提升閥在第一端處包括密封部,該密封部的尺寸設計成用于與殼體密封表面的選擇性接合。提升閥包括周向地隔開且徑向地延伸的至少第一鰭狀件和第二鰭狀件,以用于與殼體內表面的滑動接合,每個鰭狀件均形成提升閥的總周長的較小部分。
提升閥包括徑向地延伸的至少第三鰭狀件,該第三鰭狀件的尺寸設計成用于與殼體內表面的滑動接合。
至少第一鰭狀件、第二鰭狀件和第三鰭狀件關于提升閥是基本上周向地等間距的。
第一鰭狀件、第二鰭狀件和第三鰭狀件在周向方向上以120°的范圍彼此隔開。
每個鰭狀件均包括至少第一接合部和第二接合部,該第一接合部和第二接合部的尺寸設計成用于與殼體內表面滑動接合,至少第一接合部和第二接合部中的每個均相對于彼此軸向間隔地設置。
每個鰭狀件均包括在第一接合部與第二接合部之間的互連部。
每個互連部均與接合部向內徑向地隔開。
密封部設置成鄰近提升閥的第一端,并且至少第一鰭狀件和第二鰭狀件設置成鄰近提升閥的第二端。
提升閥包括與內部通道流體連通的從中徑向地延伸的通道。
通道周向地介于至少第一鰭狀件與第二鰭狀件之間。
在優選的裝置中,殼體內表面形成腔體的至少一部分,并且包括與腔體流體連通的入口和出口,在入口與出口之間具有密封表面。提升閥被接收在殼體腔體中并且包括密封件,該密封件構造成在閉合位置中與密封表面接合、并且在打開位置中與密封表面隔開,提升閥包括沿著提升閥周向地隔開的第一鰭狀件、第二鰭狀件和第三鰭狀件,并且每個鰭狀件均包括軸向地間隔的第一接合件和第二接合件,該第一接合件和第二接合件構造成用于沿著殼體內表面的滑動接收,并且提升閥具有沿著提升閥在鄰近鰭狀件之間的周向區域減少的橫截面尺寸。
提升閥組件限制了冰在其中的形成。
提升閥組件使提升閥與殼體之間的接觸區域最小化同時提供充分的導向。
提升閥組件具有改良的通流或洗流。
通過閱讀并理解下文的詳細說明,本公開的其他益處和優勢變得更加明顯。
附圖說明
圖1是現有技術低溫液力耦合部件的縱向橫截面圖。
圖2是圖1的現有技術提升閥的立體圖。
圖3是本公開的低溫液力耦合部件或提升閥組件的縱向橫截面圖。
圖4是大致從圖3的左手端截取的端視圖。
圖5是大致沿著圖3的線5-5截取的橫截面圖。
圖6是新型提升閥的第一優選裝置的立體圖。
圖7是圖6的提升閥的正視圖。
圖8是大致從圖7左手端截取的端視圖。
圖9是大致從圖7右手端截取的端視圖。
圖10是新型提升閥的第二優選裝置的立體圖。
圖11是新型提升閥的第三優選裝置的立體圖。
圖12是新型提升閥的第四優選裝置的立體圖。
圖13是新型提升閥的第五優選裝置的立體圖。
圖14是新型提升閥的第六優選裝置的立體圖。
具體實施方式
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