[發明專利]光成像系統及具有該光成像系統的投影成像系統

有效

• 申請號: 201410235485.2
• 申請日: 2014-05-29
• 公開（公告）號: CN103995420A
• 公開（公告）日: 2014-08-20
• 發明（設計）人: 張佳;康棟;李關
• 申請（專利權）人: 深圳市矽韋氏科技有限公司
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;G02B3/00
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

1.一種光成像系統，包括第一微凸透鏡陣列和第二微凸透鏡陣列，其特征在于，所述第一微凸透鏡、第二微凸透鏡相向間距設置或背向間距設置，各所述第一微凸透鏡、第二微凸透鏡的結構參數相同且焦距相等，所述第一微凸透鏡陣列中各所述第一微凸透鏡的光軸和所述第二微凸透鏡陣列中第二微凸透鏡的光軸一一對應并重合，第一微凸透鏡陣列和第二微凸透鏡陣列之間的距離為第一微凸透鏡、第二微凸透鏡的焦距的兩倍或同一單位量級。

2.如權利要求1所述的光成像系統，其特征在于，所述第一微凸透鏡陣列和第二微凸透鏡陣列分設于第一基板和第二基板上相向的一面上。

3.如權利要求1所述的光成像系統，其特征在于，所述第一微凸透鏡陣列和第二微凸透鏡陣列分設于同一基板的兩面上。

4.如權利要求3所述的光成像系統，其特征在于，所述基板的厚度為第一微凸透鏡、第二微凸透鏡的焦距的兩倍或同一單位量級。

5.如權利要求2所述的光成像系統，其特征在于，所述第一基板、第二基板的表面鍍設有增透膜。

6.如權利要求3所述的光成像系統，其特征在于，所述基板的表面鍍設有增透膜。

7.如權利要求1至5中任一項所述的光成像系統，其特征在于，所述第一微凸透鏡陣列、第二微凸透鏡陣列的微結構單元呈正方形、長方形或六邊形。

8.一種投影成像系統，包括光投射系統和反射成虛像系統，其特征在于，還包括如權利要求1至7中任一項所述且用于將光投射系統中的光線折射至所述反射成虛像系統的光成像系統。

9.如權利要求8所述的投影成像系統，其特征在于，所述光投射系統為光源采用RGB三色激光二極管的微投影儀。

10.如權利要求8或9所述的投影成像系統，其特征在于，所述反射成虛像系統包括用于將圖像反射至眼睛的曲面反射鏡或反射鏡組合或反射鏡組合和擋風玻璃。