[發明專利]一種制備高純金屬的電解槽及使用方法在審
| 申請號: | 201410232316.3 | 申請日: | 2014-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN105274577A | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發明(設計)人: | 蔡振平;陳松;郎書玲;吳延科;王力軍 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號: | C25C7/00 | 分類號: | C25C7/00;C25C7/06;C25C7/04;C25C1/08 |
| 代理公司: | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人: | 朱麗華 |
| 地址: | 100088 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 高純 金屬 電解槽 使用方法 | ||
1.一種制備高純金屬用電解槽,包括一電解槽本體,電解槽的上部設有一個進料管,該進料管的入口端外接電解液儲液槽,電解槽上部一側面開有與溢流區相通的溢流口,在溢流區的底部開有一溢流孔,該溢流孔與外接的再生槽連通;其特征在于:
所述的電解槽內側、距離側板1-3cm處裝有一塊與側板平行的擋流板,由該擋流板將電解槽隔離為擋流區和電解區;在電解槽的電解區內安裝有用于置放若干電極的成對組卡槽板;
所述進料管的出口端設在擋流區內或朝向擋流區;
在電解槽的外部加設一個可加熱的水浴槽,該電解槽坐落于水浴槽中且與水浴槽隔開,該水浴槽底部設有進水孔和出水孔。
2.如權利要求1所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述的電解槽是通過底部的支撐板與水浴槽隔開。
3.如權利要求1所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述溢流區為電解槽一側面外接的凹槽,凹槽的另一邊與水浴槽內壁相接使整個區域橫跨越水浴夾層。
4.如權利要求1所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述擋流板的上沿與電解槽平齊,擋流板的左、右端與電解槽相連,下端與電解槽底部留有縫隙。
5.如權利要求4所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:在擋流區側,檔流板距電解槽內壁的距離為1-3cm;檔流板下端與電解槽底部留有的縫隙不大于1cm。
6.如權利要求1所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述成對組卡槽板包括分別安裝在電解槽上部及下部的兩相對側壁上的兩對上、下卡槽板,各上、下卡槽板上均開有同數量和對應方位的卡槽。
7.如權利要求6所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述下卡槽板上開設的槽深為卡槽板高度的1/3。
8.如權利要求1所述的制備高純金屬用電解槽,其特征在于:所述安裝在電解槽內上部的上卡槽板位置不低于溢流口區,下部的下卡槽板的底端與檔流板底端距電解槽底部的距離保持一致。
9.一種制備高純金屬用電解槽的使用方法,其特征在于方法如下::
1)首先制備如權利要求1至權利要求8中所述的任一種制備高純金屬用電解槽;
2)通過進水管向水浴槽中加入自來水,待水浴槽中的水位到達溢流區底部高度時,開啟加熱器加熱;
3)啟動進料工序,電解液由進料管加入到擋流區,讓電解液通過擋流區底部的缺口進入電解槽;
4)進入電解槽的電解液由下至上逐步充滿電解槽,當電解液液面到達溢流板界面時,電解液流入溢流區,溢流區的電解液通過出口溢流孔流入外接的再生槽;此時電解槽中的電解液達到平衡狀態,當電解槽中的電解液溫度也到達預定的溫度后,將電極板依次插入到卡槽板中,進行電解。
10.一種如權利要求1至權利要求8中所述的任一種制備高純金屬用電解槽的用途,用于實現高純鈷的制備。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京有色金屬研究總院,未經北京有色金屬研究總院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410232316.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:內電鑄銀工藝產品的生產方法
- 下一篇:金屬管件清洗劑





