[發明專利]一種鎳鉑合金濺射靶材及其制備方法有效
| 申請號： | 201410231799.5 | 申請日： | 2014-05-29 |
| 公開（公告）號： | CN104018128A | 公開（公告）日： | 2014-09-03 |
| 發明（設計）人： | 王傳軍;唐志龍;張俊敏;聞明;畢珺;沈月;宋修慶;管偉明 | 申請（專利權）人： | 貴研鉑業股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/14;C22C19/03;C22F1/10 |
| 代理公司： | 昆明今威專利商標代理有限公司 53115 | 代理人： | 賽曉剛 |
| 地址： | 650106 云南省昆明市高新*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 合金 濺射 及其 制備 方法 | ||
1.一種鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：所述鎳鉑濺射靶中，鉑的含量為0～5原子百分比，靶材的平均晶粒尺寸小于80微米，且單個晶粒尺寸不大于150微米。?
2.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：所述鎳鉑濺射靶中平均晶粒尺寸小于50微米，且單個晶粒尺寸不大于100微米。?
3.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：在X射線衍射分析中，用式(Ⅰ)表示的(111)晶面的X射線衍射峰強度比為小于50％，?
..............................式(Ⅰ)。?
4.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：在X射線衍射分析中，用式(Ⅱ)表示的(200)晶面的X射線衍射峰強度比大于20％，?
..............................式(Ⅱ)。?
5.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：所述靶材的透磁率(PTF)大于40％且在各個不同方向上測量的數值差別在5％以內。?
6.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：所述靶材的透磁率(PTF)大于50％且在各個不同方向上測量的數值差別在5％以內。?
7.根據權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶，其特征在于：所述靶材的透磁率(PTF)大于60％且在各個不同方向上測量的數值差別在5％以內。?
8.一種如權利要求1所述的鎳鉑合金濺射靶的制備方法，包括以下步驟：?
(a)熔煉：將鎳或鎳合金原料熔煉成鑄錠；?
(b)熱軋：熱軋鎳或鎳合金鑄錠成料坯；?
(c)冷軋和熱處理：對熱軋后的料坯進行冷軋和熱處理交替加工；?
其特征在于：其中熱軋時需進行橫縱向的交替軋制，熱軋溫度為?950℃～1250℃，熱軋變形量在30％以上；所述的冷軋為橫軋與縱軋按90度角順時針交替軋制，冷軋次數為兩次，冷軋之間進行一次熱處理，冷軋的總的變形量在20％～30％以內；所述的熱處理溫度為600℃～800℃，時間為1～4個小時。?
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