[發明專利]一種制備高純鈷的方法

在審

• 申請號: 201410231018.2
• 申請日: 2014-05-28
• 公開（公告）號: CN105274563A
• 公開（公告）日: 2016-01-27
• 發明（設計）人: 蔡振平;陳松;郎書玲;吳延科;薛紅霞
• 申請（專利權）人: 北京有色金屬研究總院
• 主分類號: C25C1/08
• 分類號: C25C1/08;C25C7/00;C22B23/06
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 劉徐紅

1.一種制備高純鈷的方法，包括如下步驟：

(1)鈷溶液的萃取分離、凈化：將P507采用皂化的方式制備得到P507有機萃取劑，然后加入氯化鈷溶液，用攪拌萃取的方法進行萃取分離；然后進行酸液洗滌、酸液反萃；反萃后的溶液用大孔吸附樹脂進行深度凈化處理而后再濃縮得到高純鈷溶液；

(2)電解沉積：高純鈷溶液由電解槽底部自下而上通過擋流板進入自加熱式電解槽，進行單循環電解沉積；電解槽中溶液的濃度、溶液量及pH值保持一致，電積得到高純電積鈷；

(3)真空熔煉：高純電極鈷通過真空熔煉制備得到高純鈷錠。

2.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：將P507與磺化煤油混合均勻，P507萃取劑的含量在20～30體積％之間，再加入氫氧化鈉溶液進行皂化反應，P507+磺化煤油與氫氧化鈉溶液的體積比為：25:1～35:1，氫氧化鈉溶液的濃度為11～13mol/L，得到P507有機萃取劑。

3.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：所述的氯化鈷溶液的濃度為40～80g/L。

4.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：所述的酸液洗滌為：所述的大孔吸附樹脂的粒徑為60～150目。

5.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：濃縮后得到的高純鈷溶液中含鈷80～150g/L。

6.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：電解沉積時，陰極為鈦板，陽極為鈦涂釕材料，電解槽中設有極板卡槽，極板裝在卡槽中。

7.根據權利要求6所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：所述的電解槽內裝有縱直向的擋流板，將電解槽隔離為擋流區和電解區。

8.根據權利要求7所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：所述的電解槽的外部設一個可加熱的水浴槽，該電解槽坐落于水浴槽中且與水浴槽隔開。

9.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：電解沉積時，電解液的循環速度為1～5L/hr，高純鈷溶液的pH為2.5～4.5，電解液溫度為40～60℃，電流密度為100～300A/m²。

10.根據權利要求1所述的制備高純鈷的方法，其特征在于：所述的真空熔煉溫度為1600℃，真空度為10^-4～10Pa。