[發(fā)明專利]一種低溫沸騰氯化系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410224818.1
• 申請(qǐng)日: 2014-05-26
• 公開（公告）號(hào): CN103979603A
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周艾然;陸平;王建鑫;龍盤忠
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼鐵研究院有限公司
• 主分類號(hào): C01G23/02
• 分類號(hào): C01G23/02
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 邢偉;譚昌馳

1.一種低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)包括低溫沸騰氯化爐、進(jìn)料裝置和上排渣管，

所述低溫沸騰氯化爐包括爐體，由爐體圍成的爐體內(nèi)腔，設(shè)置在所述爐體內(nèi)腔中的第一氣體分布器和第二氣體分布器，以及設(shè)置在所述爐體上且與所述爐體內(nèi)腔連通的上排渣口、加料口、氯氣入口、排氣口和流態(tài)化氣體入口；

所述爐體由下至上被劃分為爐底、反應(yīng)段、連接段和沉降段；

所述上排渣口設(shè)置在所述反應(yīng)段的上部，所述上排渣管與上排渣口連接；

所述排氣口設(shè)置在所述沉降段的上部或頂部；

所述進(jìn)料裝置設(shè)置在所述爐體之外并通過所述加料口向爐底提供碳化渣；

所述第一氣體分布器通過管道與所述氯氣入口連通，且用于從上方向所述反應(yīng)段內(nèi)提供氯氣；

所述第二氣體分布器通過管道與所述流態(tài)化氣體入口連通，且用于向爐底噴入流態(tài)化氣體；

所述碳化渣在流態(tài)化氣體的作用下呈流化態(tài)并向上運(yùn)動(dòng)與所述氯氣逆流接觸發(fā)生氯化反應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣體分布器包括用于使氯氣沿所述爐體內(nèi)腔橫截面分布的第一氣體分布管組件和設(shè)置在所述第一氣體分布管組件靠近所述第二氣體分布器一側(cè)的管壁上的多個(gè)噴嘴，所述第二氣體分布器包括用于使流態(tài)化氣體沿所述爐體內(nèi)腔橫截面分布的第二氣體分布管組件和設(shè)置在所述第二氣體分布管組件遠(yuǎn)離所述第一氣體分布器一側(cè)的管壁上的多個(gè)噴嘴。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣體分布管組件和所述第二分布管組件均包括母管和與所述母管連通且呈同心環(huán)布置的多個(gè)支管。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣體分布器設(shè)置在所述低溫沸騰氯化爐內(nèi)固體物料的料層料面的上方0.25～0.5m處。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述第二氣體分布器設(shè)置在所述反應(yīng)段和所述爐底的連接處。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述加料口設(shè)置在所述反應(yīng)段的下部并靠近所述第二氣體分布器。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述加料口和所述上排渣口沿所述爐體的周向相對(duì)設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述低溫沸騰氯化爐還包括設(shè)置在所述爐底底部且與所述爐體內(nèi)腔連通的下排渣口。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括下排渣管和吹掃裝置，所述下排渣管包括與所述下排渣口連通的豎直段、向下傾斜設(shè)置的傾斜段以及用于連接所述豎直段和傾斜段的彎頭，所述吹掃裝置與所述彎頭連通以通入吹掃氣體。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng)，其特征在于，所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括與所述排氣口連通的尾氣處理系統(tǒng)。