[發(fā)明專利]光掩模用基板組和光掩模組及顯示裝置的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410219079.7
• 申請(qǐng)日: 2012-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN103955111B
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 土屋雅譽(yù);池邊壽美
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/60
• 分類號(hào): G03F1/60;G03F1/76;G03F7/20;G02B5/20
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

1.一種光掩模用基板組，其具有：

第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印用圖案而成為第1光掩模；以及

第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待與所述轉(zhuǎn)印用圖案重疊地轉(zhuǎn)印至所述被轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印用圖案而成為第2光掩模，

該光掩模用基板組的特征在于，

當(dāng)設(shè)所述第1光掩模用基板的主表面上的圖案區(qū)域內(nèi)設(shè)定的任意的點(diǎn)M相對(duì)于基準(zhǔn)面的高度為Zm，

設(shè)所述第2光掩模用基板的主表面上的圖案區(qū)域內(nèi)的處于與所述第1光掩模用基板上的點(diǎn)M對(duì)應(yīng)的位置處的點(diǎn)N相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的高度為Zn，

并求出了所述Zm與所述Zn之差Zd時(shí)，

在所述圖案區(qū)域內(nèi)，該Zd的最大值ΔZdmax為17μm以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模用基板組，其特征在于，

該光掩模用基板組用于接近式曝光。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模用基板組，其特征在于，

該光掩模用基板組在玻璃基板上形成有光學(xué)膜。

4.一種光掩模組，其具有：

第1光掩模，其在主表面上形成有待轉(zhuǎn)印至被轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印用圖案；以及

第2光掩模，其在主表面上形成有待與所述轉(zhuǎn)印用圖案重疊地轉(zhuǎn)印至所述被轉(zhuǎn)印體的轉(zhuǎn)印用圖案，

該光掩模組的特征在于，

當(dāng)設(shè)所述第1光掩模的主表面上的圖案區(qū)域內(nèi)設(shè)定的任意的點(diǎn)M相對(duì)于基準(zhǔn)面的高度為Zm，

設(shè)所述第2光掩模的主表面上的圖案區(qū)域內(nèi)的處于與所述第1光掩模上的點(diǎn)M對(duì)應(yīng)的位置處的點(diǎn)N相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的高度為Zn，

并求出了所述Zm與所述Zn之差Zd時(shí)，

在所述圖案區(qū)域內(nèi)，該Zd的最大值ΔZdmax為17μm以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模組，其特征在于，

該光掩模組用于接近式曝光。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光掩模組，其特征在于，

該光掩模組在所述圖案區(qū)域中具有濾色片制造用圖案。

7.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

準(zhǔn)備權(quán)利要求4中記載的所述第1光掩模和所述第2光掩模；以及

使用接近式曝光用的曝光機(jī)將所述第1光掩模具有的轉(zhuǎn)印用圖案和所述第2光掩模具有的轉(zhuǎn)印用圖案重疊地轉(zhuǎn)印至同一被轉(zhuǎn)印體。