[發明專利]一種潤滑薄膜的制備方法

有效

• 申請號: 201410218285.6
• 申請日: 2014-05-22
• 公開（公告）號: CN103984204A
• 公開（公告）日: 2014-08-13
• 發明（設計）人: 李豐;鄧萌萌;石振;楊立梅
• 申請（專利權）人: 蘇州錦元納米科技有限公司;南京豐強納米科技有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;B81C1/00
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒

1.?一種潤滑薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)對基底表面上的薄膜層進行預處理，以去除表面灰塵；

(2)在薄膜層上旋涂SU-8光刻膠，加熱后紫外固化，形成中間層；

(3)在中間層上旋涂紫外光固化納米壓印膠，形成紫外光固化納米壓印膠層；

(4)?將軟質壓印模板壓入紫外光固化納米壓印膠層，在紫外燈下曝光，曝光結束后移去軟質壓印模板，所述軟質壓印模板的下表面上設微納結構圖案；?

(5)刻蝕去除壓印時殘留的紫外光固化納米壓印膠，露出中間層；

(6)以紫外光固化納米壓印膠層作為掩膜層，刻蝕中間層的SU-8光刻膠，露出薄膜層；

(7)以紫外光固化納米壓印膠層和中間層作為掩膜，刻蝕薄膜層，在薄膜層上形成微納結構；

(8)去除紫外光固化納米壓印膠層和中間層，獲得所需潤滑薄膜。

2.?根據權利要求1所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(1)中，所述預處理為氮氣吹掃，吹掃時間為30～120秒。

3.?根據權利要求1所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：中間層的厚度為300～1000納米，紫外光固化納米壓印膠層的厚度為100～300納米。

4.?根據權利要求1所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：采用氣體刻蝕法，所述紫外光固化納米壓印膠層的刻蝕氣體為氧氣與三氟甲烷的混合氣體，氧氣與三氟甲烷的體積比為4∶1；所述中間層的刻蝕氣體為氧氣。

5.?根據權利要求1所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：所述薄膜為類金鋼石薄膜，步驟(7)中，薄膜的刻蝕采用氣體刻蝕法，刻蝕氣體為氧氣與三氟甲烷的混合氣體，氧氣與三氟甲烷的體積比為1∶1。

6.?一種潤滑薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)對基底表面進行預處理，以去除表面灰塵；

(2)在基底上旋涂SU-8光刻膠，加熱后紫外固化，形成中間層；

(3)在中間層上旋涂紫外光固化納米壓印膠，形成紫外光固化納米壓印膠層；

(4)?將軟質壓印模板壓入紫外光固化納米壓印膠層，在紫外燈下曝光，曝光結束后移去軟質壓印模板，所述軟質壓印模板的下表面上設微納結構圖案；

(5)刻蝕去除壓印時殘留的紫外光固化納米壓印膠，露出中間層；

(6)以紫外光固化納米壓印膠層作為掩膜層，刻蝕中間層的SU-8光刻膠，露出薄膜層；

(7)以紫外光固化納米壓印膠層和中間層作為掩膜，刻蝕基底，在基底上形成微納結構；

(8)去除紫外光固化納米壓印膠層和中間層；

(9)在具有微納結構的基底表面沉積薄膜層，得到具有微納結構的潤滑薄膜。

7.?根據權利要求6所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(1)中，所述預處理為氮氣吹掃，吹掃時間為30～120秒。

8.?根據權利要求6所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：中間層的厚度為300～1000納米，紫外光固化納米壓印膠層的厚度為100～300納米。

9.?根據權利要求6所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：采用氣體刻蝕法，所述紫外光固化納米壓印膠層的刻蝕氣體為氧氣與三氟甲烷的混合氣體，氧氣與三氟甲烷的體積比為4∶1；所述中間層的刻蝕氣體為氧氣。

10.?根據權利要求6所述的潤滑薄膜的制備方法，其特征在于：步驟(9)中，沉積的薄膜層為類金剛石薄膜。