[發明專利]一種用于制造用于手表的彩色組件的方法和設備

有效

• 申請號: 201410217105.2
• 申請日: 2014-05-21
• 公開（公告）號: CN104181801B
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發明（設計）人: 王英男;江爭
• 申請（專利權）人: 動力專家有限公司
• 主分類號: G04B19/26
• 分類號: G04B19/26
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 王春光

1.一種制造用于在手表中的組件的方法，所述方法包含在晶片上沉積第一薄膜的步驟，其中所述第一薄膜被適配成允許光反射離開所述晶片為要指示第一色彩特征；

所述方法還包含在所述晶片上制造第二色彩特征的進一步的步驟，所述進一步的步驟包含使用光刻在所述第一薄膜上界定圖案，并且處理所述圖案的邊界內的區域，因此所述區域被適配成允許光反射離開晶片為要指示所述第二色彩特征，處理所述圖案的所述邊界內的所述區域的所述步驟包含以下中的至少一個：

(a)、在所述圖案的所述邊界內沉積金屬或陶瓷材料，其中所述金屬或陶瓷材料指示所述第二色彩特征；

(b)、移除所述圖案的所述邊界內的所述第一薄膜中的至少一些，并且隨后將第二薄膜沉積在其中，其中所述第二薄膜被適配成產生第二色彩特征；

(c)、在所述圖案的所述邊界內的所述區域內沉積第二薄膜而無需移除所述圖案的所述邊界內的任何所述第一薄膜，使得所述第二薄膜要么單獨地要么結合所述第一薄膜被適配成產生所述第二色彩特征。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述晶片包含不透明材料。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述晶片包含硅晶片。

4.根據權利要求2所述的方法，其中所述晶片包含硅晶片。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中在所述晶片上沉積所述第一薄膜的所述步驟是使用等離子體增強型化學氣相沉積工藝和低壓化學氣相沉積工藝中的至少一個進行的。

6.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述第一薄膜包含大于2的折射率。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述圖案包含月亮或星星形狀。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，處理所述圖案的所述邊界內的所述區域的所述步驟為在所述圖案的所述邊界內沉積金屬或陶瓷材料，其中所述金屬或陶瓷材料指示所述第二色彩特征時，使用磁控濺鍍沉積工藝和電子束蒸發沉積工藝中的至少一者將所述金屬或陶瓷材料沉積在所述圖案的所述邊界內。

9.根據權利要求1所述的方法，其中所述第二薄膜是使用等離子體增強型化學氣相沉積工藝沉積的。

10.根據權利要求1所述的方法，其中處理所述圖案的所述邊界內的所述區域的所述步驟包含薄化所述圖案的所述邊界內的所述第一薄膜到適合于產生所述第二色彩特征的厚度。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所述第一薄膜和所述第二薄膜的至少一者包含氮化硅材料。

12.一種用于在手表中的組件，所述組件根據權利要求1到11中任一項所述的方法來制造。