[發(fā)明專利]一種用于制造光變顏料的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410216901.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105086514B | 公開(公告)日: | 2017-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張巍巍;孫凱;王曉利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中鈔特種防偽科技有限公司;中國(guó)印鈔造幣總公司 |
| 主分類號(hào): | C09C1/00 | 分類號(hào): | C09C1/00;C09C1/62;C09C3/06;B32B15/082;B32B3/02 |
| 代理公司: | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11283 | 代理人: | 羅攀,肖冰濱 |
| 地址: | 100070 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 制造 顏料 方法 | ||
1.一種用于制造光變顏料的方法,該方法包括:
提供基材;
在所述基材上形成模壓成型層,該模壓成型層包括第一區(qū)域、第二區(qū)域和第三區(qū)域,該第一區(qū)域表面平坦,該第二區(qū)域具有第一表面微浮雕結(jié)構(gòu),以及該第三區(qū)域具有第二表面微浮雕結(jié)構(gòu),所述第二表面微浮雕結(jié)構(gòu)的微結(jié)構(gòu)深度與微結(jié)構(gòu)周期寬度的比值大于第一表面微浮雕結(jié)構(gòu)的微結(jié)構(gòu)深度與微結(jié)構(gòu)周期寬度的比值;
在所述模壓成型層的表面沉積剝離層,該剝離層具有與所述模壓成型層相同的第一區(qū)域、第二區(qū)域以及第三區(qū)域;
在該剝離層的表面沉積至少一個(gè)顏料鍍層,該顏料鍍層具有與所述模壓成型層相同的第一區(qū)域、第二區(qū)域以及第三區(qū)域;
溶解所述剝離層;以及
粉碎所述顏料鍍層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,該方法還包括:從被粉碎的顏料鍍層中篩選所需的光變顏料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,所述第三區(qū)域?qū)⑺龅谝粎^(qū)域和第二區(qū)域劃分成多個(gè)單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,在所述模壓成型層的表面沉積剝離層是通過采用熱蒸發(fā)沉積方法、電子束蒸發(fā)沉積方法、磁控濺射沉積方法中的至少一種方式實(shí)現(xiàn)的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,在所述剝離層的表面沉積至少一個(gè)顏料鍍層是通過采用熱蒸發(fā)沉積方法、電子束蒸發(fā)沉積方法、磁控濺射沉積方法中的至少一種方式實(shí)現(xiàn)的。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,粉碎所述顏料鍍層是通過超聲粉碎來實(shí)現(xiàn)的。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,所述第二表面微浮雕結(jié)構(gòu)的微結(jié)構(gòu)深度與微結(jié)構(gòu)周期寬度的期望比值是基于該第二表面微浮雕結(jié)構(gòu)的形貌、周期、槽深來確定的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法,其中,所述第一表面微浮雕結(jié)構(gòu)為全息光柵結(jié)構(gòu),所述第二表面微浮雕結(jié)構(gòu)為亞波長(zhǎng)微結(jié)構(gòu)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中鈔特種防偽科技有限公司;中國(guó)印鈔造幣總公司,未經(jīng)中鈔特種防偽科技有限公司;中國(guó)印鈔造幣總公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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