[發(fā)明專利]一種掩膜版霧化控制方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410216694.2
• 申請日: 2014-05-21
• 公開（公告）號: CN105093814B
• 公開（公告）日: 2019-08-13
• 發(fā)明（設計）人: 徐卿棟;盧子軒
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F1/44
• 分類號: G03F1/44;G03F1/72;G03F7/20
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種掩膜版霧化控制方法，其特征在于，至少包括以下步驟：

1)從待掃描測試的掩膜版中選擇出在預設時間內(nèi)使用次數(shù)大于或等于預設次數(shù)的第一數(shù)量掩膜版；

2)依據(jù)公式R＝r₁*r₂*r₃*r₄*r₅計算出所述第一數(shù)量掩膜版中各掩膜版的霧化風險值R，其中，r₁為掩膜版的曝光總劑量風險值，r₂為掩膜版的使用年限風險值，r₃為掩膜版的清洗次數(shù)風險值，r₄為掩膜版的存儲方式風險值，r₅為掩膜版的制程線寬風險值；

3)依據(jù)霧化風險值從高到低依次對全部或部分掩膜版進行掃描測試，并根據(jù)掃描測試的結果確定實際被霧化的掩膜版；

4)對實際被霧化的掩膜版進行修復。

2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：步驟1)中所述的預設次數(shù)為5～20次中的任意一種。

3.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的曝光總劑量風險值由r₁＝k₁x+A，0<x≤500或r₁＝k₂ln(x)-B，x>500確定，其中，k₁的范圍為0.0004～0.0008，A的范圍為0.15～0.25，k₂的范圍為0.5～0.6，B的范圍為3～3.5，x為掩膜版的曝光次數(shù)。

4.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的使用年限風險值由r₂＝k₃y²+k₄y+C，0<y≤4或r₂＝D，y>4確定，其中，k₃的范圍為0.1～0.18，k₄的范圍為0.04～0.08，C的范圍為0.3～0.5，D的范圍為2.5～3，y為掩膜版的使用年限。

5.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的清洗次數(shù)風險值由r₃＝k₅z²+k₆z+E，0<z≤3或r₃＝F，z>3確定，其中，k₅的范圍為0.25～0.3，k₆的范圍為0.7～1，E的范圍為0.9～1，F(xiàn)的范圍為5～7，z為掩膜版的清洗次數(shù)。

6.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的存儲方式風險值為：當存儲方式為惰性氣體保護存儲時，r₄的范圍為0.3～0.5；當存儲方式為常規(guī)存儲時，r₄的范圍為0.8～1.2。

7.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：所述掩膜版的制程線寬風險值為：當所述掩膜版的線寬為356nm時，r₅的范圍為0.6～1；當所述掩膜版的線寬為248nm時，r₅的范圍為1～1.4，當所述掩膜版的線寬為193nm時，r₅的范圍為4～6。

8.根據(jù)權利要求1所述的掩膜版霧化控制方法，其特征在于：步驟3)中，當霧化風險值R<1時，則判斷該掩膜版為低霧化風險，可繼續(xù)正常使用；當1≤R<5時，則判斷該掩膜版為有霧化風險，應盡快安排霧化掃描測試；當R>5時，則判斷該掩膜版為高霧化風險，應立刻停止使用并立即進行霧化掃描測試。