[發(fā)明專(zhuān)利]一種預(yù)清洗腔室及半導(dǎo)體加工設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410213303.1
• 申請(qǐng)日: 2014-05-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105088176B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳鵬
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/02
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/02;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 彭瑞欣,張?zhí)焓?/td>

1.一種預(yù)清洗腔室，包括腔體、承載裝置、線(xiàn)圈、第一射頻裝置、第二射頻裝置；所述腔體接地；所述承載裝置設(shè)于所述腔體內(nèi)部，用于承載被加工工件；所述第二射頻裝置與所述承載裝置電連接，用于向所述承載裝置加載射頻功率；其特征在于，所述預(yù)清洗腔室還包括耦合連接件和線(xiàn)圈旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述線(xiàn)圈環(huán)繞于所述腔體的外側(cè)壁設(shè)置，所述線(xiàn)圈旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置與所述線(xiàn)圈的第一端絕緣連接，用于驅(qū)動(dòng)所述線(xiàn)圈繞所述腔體作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；所述線(xiàn)圈的第二端與所述腔體連接；

所述耦合連接件環(huán)繞所述線(xiàn)圈的第一端，且所述耦合連接件的內(nèi)壁與所述線(xiàn)圈之間具有預(yù)設(shè)距離；

所述第一射頻裝置通過(guò)所述耦合連接件與所述線(xiàn)圈的第一端容性耦合連接，用于向所述線(xiàn)圈加載射頻功率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述耦合連接件為耦合環(huán)，所述耦合環(huán)由導(dǎo)電材料制成；

所述耦合環(huán)與所述第一射頻裝置電連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述線(xiàn)圈的第一端在所述線(xiàn)圈的中心線(xiàn)上與所述線(xiàn)圈旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)軸連接，以使所述線(xiàn)圈能夠以其中心線(xiàn)為轉(zhuǎn)軸繞所述腔體作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述線(xiàn)圈的第一端的直徑的范圍為5～20mm，所述耦合環(huán)的環(huán)孔的直徑的范圍為7～100mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述耦合連接件為由導(dǎo)電材料制成，且與所述第一射頻裝置電連接的環(huán)形容器，所述環(huán)形容器內(nèi)盛有導(dǎo)電液體或絕緣液體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述第一射頻裝置向所述線(xiàn)圈加載的射頻功率為400KHz、2MHz、13.56MHz、40MHz、60MHz或100MHz。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述預(yù)清洗腔室還包括與所述線(xiàn)圈的第二端電連接的金屬片，所述線(xiàn)圈的第二端通過(guò)所述金屬片與所述腔體容性耦合連接，以使在所述線(xiàn)圈繞所述腔體作旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的過(guò)程中，所述線(xiàn)圈與地之間的耦合阻抗不變。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述金屬片為弧形。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的預(yù)清洗腔室，其特征在于，所述金屬片的弧度大于5度。

10.一種半導(dǎo)體加工設(shè)備，包括預(yù)清洗腔室，所述預(yù)清洗腔室用于去除被加工工件表面的雜質(zhì)，其特征在于，所述預(yù)清洗腔室采用權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的預(yù)清洗腔室。