[發明專利]一種液晶顯示屏及制造方法

有效

• 申請號: 201410210003.8
• 申請日: 2014-05-16
• 公開（公告）號: CN103995395B
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 王士敏;張超;趙約瑟;劉立峰;李紹宗
• 申請（專利權）人: 深圳萊寶高科技股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1333
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所44237
• 代理人: 張全文

技術領域

本發明涉及電子技術領域，特別涉及一種液晶顯示屏及制造方法。

背景技術

液晶顯示面板主要由有源元件陣列基板、彩膜基板以及一液晶層所組成。當在彩膜基板與有源元件陣列基板之間施加電場時，液晶層內的液晶分子便會受到電場的作用而產生偏轉，使得液晶層具有相應于此電場的光線穿透率。因此，液晶顯示面板便可以依據彩膜基板與有源元件陣列基板之間的電場大小，而顯示不同的灰階畫面。

為了使液晶分子快速反應以及滿足廣視角的需求，必須令液晶分子形成傾倒排列。對此，通常是在配向層上采用摩擦制程，即在配向層上按照一定的方向摩擦出整齊排列的溝槽，與配向層接觸的液晶會由于溝槽方向以及分子間的作用力而達到定向排列的效果。

配向層與平坦層之間的附著力差，且由于平坦層一般硬度較小，不利于配向層的印刷以及配向層的摩擦配向。一旦印刷不均勻或者摩擦不均勻，均會影響產品良率。

發明內容

本發明實施例提供了一種液晶顯示屏及制造方法，以提高產品的良率。

一方面，本發明實施例提供了一種液晶顯示屏，包括第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦層和第一配向層，所述平坦層設置在所述彩膜基板的下表面，所述第一基板還包括第一絕緣層，所述第一絕緣層設置在所述平坦層下表面，所述第一配向層設置在所述第一絕緣層下表面。

第二方面，本發明實施例提供了一種液晶顯示屏的制造方法，所述方法包括制作第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦層和第一配向層，包括：

在彩膜基板下表面上涂布平坦層；

在所述平坦層下表面濺射或氣相沉積第一絕緣層；

在所述第一絕緣層下表面印刷第一配向層。

本發明提供的技術方案帶來的有益效果是：

從上述本發明實施例可知，由于第一基板還包括第一絕緣層，所述第一絕緣層設置在所述平坦層下表面，所述第一配向層設置在所述第一絕緣層下表面，增強了第一配向層在第一基板上的附著性，且第一絕緣層較平坦層硬度大，有利于第一配向層的印刷以及配向摩擦，因此，提高了產品的良率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明一種液晶顯示屏第一基板結構示意圖；

圖2為本發明一種液晶顯示屏第二基板結構示意圖；

圖3為本發明一種液晶顯示屏的制造方法的實施例第一基板制造流程圖；

圖4為本發明一種液晶顯示屏的制造方法的實施例第二基板制造流程圖。

具體實施方式

為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本發明實施方式作進一步地詳細描述。

參見圖1，本發明實施例提供了一種液晶顯示屏，包括第一基板01，所述第一基板01包括彩膜基板11、平坦層12和第一配向層13，所述平坦層12設置在所述彩膜基板11的下表面，所述第一基板01還包括第一絕緣層14，所述第一絕緣層14設置在所述平坦層12下表面，所述第一配向層13設置在所述第一絕緣層14下表面。

具體實施中，第一絕緣層14材料可為二氧化硅。

具體實施中，第一絕緣層14材料可為氮化硅，所述氮化硅的厚度為30nm。

具體實施中，所述第一絕緣層的硬度大于所述平坦層的硬度。有利于第一配向層的印刷以及配向摩擦。

具體實施中，所述平坦層遠離所述彩膜基板的一側具有第一表面，所述第一配向層在所述第一表面上的投影被所述絕緣層在所述第一表面上的投影部分或全部覆蓋。

具體實施中，所述絕緣層在垂直于所述第一表面上的厚度大于所述配向層在垂直于所述第一表面上的厚度。

參見圖2，一種液晶顯示屏，還包括第二基板02，所述第二基板02與所述第一基板01間隔設置，所述第二基板包括襯底21、薄膜場效應晶體管(Thin Film Transistor，TFT)22、第二絕緣層23和第二配向層24，所述薄膜場效應晶體管22設置在所述襯底21上表面，所述第二絕緣層23設置在所述薄膜場效應晶體管22上表面，所述第二配向層24設置在所述第二絕緣層23上表面。