[發(fā)明專利]一種印制式石墨烯基NO2氣敏元件及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410209526.0 | 申請日： | 2014-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN103995025A | 公開（公告）日： | 2014-08-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃磊;王振平;林有杰;李云香 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海師范大學 |
| 主分類號： | G01N27/12 | 分類號： | G01N27/12 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人： | 劉懿 |
| 地址： | 200234 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 印制 石墨 no sub 元件 及其 制備 方法 | ||
1.一種印制式石墨烯基NO2氣敏元件，其特征在于，設(shè)有絕緣襯底、梳狀叉指電極和石墨烯基敏感薄膜；氣敏傳感元件石墨烯基敏感薄膜采用凹版印刷的方式印制在襯底和梳狀叉指電極表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件，其特征在于，所述絕緣襯底包括聚酰亞胺、聚酯、紙、玻璃和硅片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件，其特征在于，所述梳狀叉指電極、石墨烯基敏感薄膜位于氣敏元件的絕緣襯底同側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件，其特征在于，所述梳狀叉指電極包括金屬銀、金和鉑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件，其特征在于，所述的石墨烯基敏感薄膜為石墨烯或氧化還原石墨烯的水性油墨。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件的制備方法，其特征在于，包括步驟：
A.將襯底(1)分別用丙酮、無水乙醇、去離子水進行超聲波清洗，后對其做表面處理；
B.采用凹版印刷技術(shù)，在襯底(1)上制備梳狀叉指電極(2)，并將其放在烘箱內(nèi)干燥；
C.采用凹版印刷技術(shù)將石墨烯基水性敏感油墨印刷在帶有梳狀叉指電極(2)的襯底(1)上，對襯底位置進行標記定位，使石墨烯基敏感薄膜層(3)完全覆蓋在梳狀叉指電極(2)表面上，將其放在烘箱內(nèi)干燥，得到印制式石墨烯基NO2氣敏元件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件的制備方法，其特征在于，所述步驟A中對襯底做表面處理可采用將襯底浸泡在半胱胺鹽酸鹽試劑中的化學法或反應離子刻蝕的物理法。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件的制備方法，其特征在于，所述步驟B中烘箱干燥溫度80℃，干燥20-30分鐘。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的印制式石墨烯基NO2氣敏元件的制備方法，其特征在于，所述步驟C中石墨烯基水性敏感油墨按照下述步驟配制：
將石墨烯均勻分散于去離子水中，濃度控制為15-80mg/mL，低速磁力攪拌5-10分鐘，再超聲震蕩5-10分鐘；重復該步驟3-5次完全均勻分散，獲得石墨烯基水性敏感油墨。
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