[發明專利]去除高壓二極管表面印記的方法有效
| 申請號: | 201410207389.7 | 申請日: | 2014-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN103943466B | 公開(公告)日: | 2017-02-01 |
| 發明(設計)人: | 陳許平;劉卉 | 申請(專利權)人: | 南通皋鑫電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/02 | 分類號: | H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京匯信合知識產權代理有限公司11335 | 代理人: | 孫民興 |
| 地址: | 226502 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 去除 高壓 二極管 表面 印記 方法 | ||
1.去除高壓二極管表面印記的方法,其特征在于以下步驟:
??1)堿液的配制:準備好氫氧化鈉、碳酸鈉、磷酸三鈉,按NaOH:Na2CO3:Na3PO4=1:1.5:1的比例,分別稱取NaOH?1Kg、Na2CO3?1.5Kg、Na3PO4?1Kg置于塑料槽中,加入15L水,開啟攪拌器,使完全溶解;
??2)開啟堿液塑料槽中加熱器控制開關,設定堿液溫度為55±2℃;稱取1.5Kg印記待處理品放入不銹鋼筐籃;
??3)將不銹鋼筐籃浸沒于堿液中,處理200±10s,中途手動擺動10~12次;處理完畢后取出不銹鋼筐籃,目測管體印記是否徹底清除,管體是否有易色現象;
??4)自來水浸洗:將不銹鋼筐籃轉移至第一級水槽中,浸洗4~6min;
??5)稀硫酸處理:取出不銹鋼籃,放入15%稀硫酸槽中處理4~6min;
??6)流水清洗:將不銹鋼筐籃轉移至第二級水槽中,流水沖洗4~6min;
????7)干燥:打開烘箱開關,設定溫度110±5℃;將流水清洗的不銹鋼筐籃置于烘箱中干燥60min;干燥后的產品進行引線鍍錫、再次打印即成為正常合格產品。
2.根據權利要求1所述的去除高壓二極管表面印記的方法,其特征是所述的氫氧化鈉、碳酸鈉和磷酸三鈉是工業級原料。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





