[發明專利]基于條碼仿射不變特征的同質化產品標識特征設計方法

有效

• 申請號: 201410203721.2
• 申請日: 2014-05-14
• 公開（公告）號: CN103955729A
• 公開（公告）日: 2014-07-30
• 發明（設計）人: 何衛平;王健;李夏霜;郭改放
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: G06K19/06
• 分類號: G06K19/06;G06K7/10
• 代理公司: 西北工業大學專利中心 61204
• 代理人: 王鮮凱

技術領域

本發明涉及一種同質化產品標識特征設計方法，特別是涉及一種基于條碼仿射不變特征的同質化產品標識特征設計方法。

背景技術

文獻“基于n維仿射空間的批次跟蹤模型，計算機集成制造系統，2013，Vol19(8)，p809-816”公開了一種基于n維仿射空間的產品批次跟蹤模型的方法。提出了基于n維仿射空間的批次跟蹤模型，通過該模型可以清楚地描述批次之間的內在關系，準確識別批次構成，定位批次跟蹤的范圍，以提高批次跟蹤的速度，避免了傳統方式跟蹤過程中大量的數據檢索。文獻所述方法主要以通過追蹤批次為單元，無法有效解決信息源一致的同質化產品個體追蹤，尤其是同型號同批次產品數量龐大，難以追蹤單件產品的質量狀態，且存在批次標識由于生產過程環境復雜等因素往往發生失效，則會造成產品之間特征過于相似而不易辨識，已有的技術措施不能完全杜絕同質化產品在其所有的生產環節中標識不失效，導致同質化產品個體在生產過程中追蹤斷路。

發明內容

為了克服現有同質化產品標識特征設計方法容易造成追蹤失效的不足，本發明提供一種基于條碼仿射不變特征的同質化產品標識特征設計方法。該方法通過建立基于條碼仿射不變的同質化產品DM碼直接標識特征矩陣模型，指導同質化產品批量追蹤過程的標刻參數，結合實際零件批量數設計標識特征水平，求出滿足工程要求的同質化產品個體差異的唯一標識特征。通過二維條碼識讀裝置或標識特征的提取過濾發生失效的零件，采集DM碼不同的特征參數，進行目標特征和DM碼樣本矩陣差異匹配，反查指導標刻的矩陣模板，進而防止DM碼因特殊情況失效而導致追蹤的斷路。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種基于條碼仿射不變特征的同質化產品標識特征設計方法，其特點是采用以下步驟：

步驟一、建立同質化產品仿射變換的DM碼特征模型。

二維歐氏空間上的仿射變換表示為：

C(X)＝TX+A

其中，X＝[x,y]′,T＝[ab,cd]′,A＝[e,f]′,a,b,c,d,e,f,m皆為實數，表示為：

x1y1=madcbx0y0+ef---(1)]]>