[發(fā)明專利]一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410202443.9
• 申請日: 2014-05-14
• 公開（公告）號: CN104032343A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發(fā)明（設計）人: 郭茂玉;李奎;錢竹平
• 申請（專利權）人: 蚌埠富源電子科技有限責任公司
• 主分類號: C25D5/38
• 分類號: C25D5/38
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113
• 代理人: 楊晉弘

技術領域：

本發(fā)明涉及鈦及鈦合金電鍍工藝，具體地說就是一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝。

背景技術：

純鈦及其合金具有很高的強度重量比，耐腐蝕性能優(yōu)異,中溫性能好,已在各個領域特別是宇航工業(yè)獲得廣泛的應用。但是由于鈦及鈦合金具有耐磨性能差,表面易擦傷、咬死,焊接性能差等缺點,限制了鈦及鈦合金的應用范圍。選用適當?shù)碾婂児に囉枰蕴幚?可以大大改善鈦的表面性能,賦予其新的物理性能,擴大其應用范圍。例如,鍍鉻或化學鍍鎳可提高其表面硬度,改善其耐磨性能;鍍銅或鍍銀可改善高溫承載條件下零件的表面狀態(tài);宇航工業(yè)上對鈦零件作鍍金處理,可改善其表面光反射性能;鍍銅或鍍鎳可改善鈦件的釬焊性能。由于鈦及鈦合金是非?；顫姷慕饘伲谄浔砻嫒菀咨梢环N自然的氧化膜，很難獲得結合力良好的鍍層。要想在其表面電鍍獲得結合力良好的鍍層，鍍前處理是非常重要的，目前采用的一些常規(guī)的鍍前處理方法效果都不太理想。

發(fā)明內容：

本發(fā)明中就是有效地解決現(xiàn)有技術中難題，提供一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，起到提高工件表面鍍層的質量的目的。

為實現(xiàn)上述技術目的，本發(fā)明提供以下技術方案：

一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，其特征在于包括以下具體步驟：

（1）去油工序：先在重量配比為20克∕升的Na₂CO₃溶液中加入20毫升的洗滌劑充分攪拌，即為去油液，而后將需要電鍍的工件放入煮沸的去油液中浸泡60-120秒后取出；

（2）噴丸工序：在0.4MPa壓力的環(huán)境中，使用100-200目的玻璃珠，對經(jīng)過去油工序的工件進行噴丸處理；

（3）去氧化膜工序：使用重量配比為20毫升∕升的HNO₃和重量配比為50毫升∕升的HF溶液，在室溫下對經(jīng)過噴丸工序的工件進行浸漬，以便去除工件表面上的氧化膜；

（4）活化工序：使用濃度為38%的HCl溶液（鹽酸溶液）對經(jīng)過去氧化膜工序的工件進行熱浸處理，而后在室溫下使用濃度為5%的酒石酸鉀鈉溶液，對工件進行浸入處理。

本發(fā)明的優(yōu)點在于：

??本發(fā)明提供的是一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，有效的解決了鈦及鈦合金零件表面很難獲得結合力好的鍍層這一難題，大大提高了鈦及鈦合金的機械性能，擴大了鈦及鈦合金的應用范圍，因而具有良好的應用價值。

具體實施方式：

實施例1：

??一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，包括以下具體步驟：

（1）去油工序：先在重量配比為20克∕升的Na₂CO₃溶液中加入20毫升的洗滌劑充分攪拌，即為去油液，而后將需要電鍍的工件放入煮沸的去油液中浸泡70秒后取出；

（2）噴丸工序：在0.4MPa壓力的環(huán)境中，使用120目的玻璃珠，對經(jīng)過去油工序的工件進行噴丸處理；

（3）去氧化膜工序：使用重量配比為20毫升∕升的HNO₃和重量配比為50毫升∕升的HF溶液，在室溫下對經(jīng)過噴丸工序的工件進行浸漬，以便去除工件表面上的氧化膜；

（4）活化工序：使用濃度為38%的HCl溶液（鹽酸溶液）對經(jīng)過去氧化膜工序的工件進行熱浸處理，而后在室溫下使用濃度為5%的酒石酸鉀鈉溶液，對工件進行浸入處理。

實施例2：

一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，包括以下具體步驟：

（1）去油工序：先在重量配比為20克∕升的Na₂CO₃溶液中加入20毫升的洗滌劑充分攪拌，即為去油液，而后將需要電鍍的工件放入煮沸的去油液中浸泡90秒后取出；

（2）噴丸工序：在0.4MPa壓力的環(huán)境中，使用150目的玻璃珠，對經(jīng)過去油工序的工件進行噴丸處理；

（3）去氧化膜工序：使用重量配比為20毫升∕升的HNO₃和重量配比為50毫升∕升的HF溶液，在室溫下對經(jīng)過噴丸工序的工件進行浸漬，以便去除工件表面上的氧化膜；

（4）活化工序：使用濃度為38%的HCl溶液（鹽酸溶液）對經(jīng)過去氧化膜工序的工件進行熱浸處理，而后在室溫下使用濃度為5%的酒石酸鉀鈉溶液，對工件進行浸入處理。

實施例3：

一種新型的鈦及鈦合金電鍍前處理工藝，包括以下具體步驟：