[發明專利]供體襯底及制造方法和使用供體襯底形成轉印圖案的方法在審
| 申請號: | 201410200422.3 | 申請日: | 2014-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN104175738A | 公開(公告)日: | 2014-12-03 |
| 發明(設計)人: | 權寧吉 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | B41M5/46 | 分類號: | B41M5/46;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人: | 余朦;楊莘 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 供體 襯底 制造 方法 使用 形成 圖案 | ||
1.一種供體襯底,包括:
基層;
光熱轉換層,設置在所述基層上;以及
轉印層,設置在所述光熱轉換層上,
其中,所述供體襯底進一步包括釋放靜電的金屬顆粒層,設置在所述基層與所述光熱轉換層之間或所述光熱轉換層與所述轉印層之間。
2.如權利要求1所述的供體襯底,其中所述基層包括合成樹脂。
3.如權利要求1所述的供體襯底,其中所述金屬顆粒層包括銀顆粒。
4.如權利要求1所述的供體襯底,還包括:
保護層,設置在所述轉印層上。
5.如權利要求1所述的供體襯底,還包括:
中間層,其中,在所述金屬顆粒層設置在所述基層與所述光熱轉換層之間的情況下所述中間層設置在所述光熱轉換層與所述轉印層之間,在所述金屬顆粒層設置在所述光熱轉換層與所述轉印層之間的情況下所述中間層設置在所述金屬顆粒層與所述轉印層之間,
其中所述光熱轉換層包括吸光材料,以及
所述中間層有效地防止所述光熱轉換層的吸光材料擴散到所述轉印層。
6.一種制造供體襯底的方法,所述方法包括:
在基層上提供光熱轉換層;
在所述光熱轉換層上提供金屬墨層;
使用光燒結所述金屬墨層以形成金屬顆粒層;以及
在所述金屬顆粒層上提供轉印層。
7.如權利要求6所述的方法,還包括:
將微波輻射到所述金屬顆粒層上。
8.如權利要求6所述的方法,還包括:
在所述金屬顆粒層上提供中間層,
其中所述光熱轉換層包括吸光材料,以及
所述中間層有效地防止所述光熱轉換層的吸光材料擴散到所述轉印層。
9.一種制造供體襯底的方法,所述方法包括:
在基層上提供金屬墨層;
使用光燒結所述金屬墨層以形成金屬顆粒層;
在所述金屬顆粒層上提供光熱轉換層;以及
在所述光熱轉換層上提供轉印層。
10.如權利要求9所述的方法,還包括:
將微波輻射到所述金屬顆粒層上。
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