[發明專利]超分辨三維測量顯微鏡有效
| 申請號: | 201410198264.2 | 申請日: | 2014-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN103968779A | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發明(設計)人: | 萬新軍;朱偉超;楊波 | 申請(專利權)人: | 上海理工大學 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 上海三和萬國知識產權代理事務所(普通合伙) 31230 | 代理人: | 陳偉勇 |
| 地址: | 200093 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 分辨 三維 測量 顯微鏡 | ||
1.超分辨三維測量顯微鏡,包括一干涉顯微鏡本體,其特征在于,所述干涉顯微鏡本體包括一生成準直均勻光線的照明模塊,所述照明模塊的出射光朝向一生成不同相位初值的正弦結構光的結構光生成器,所述結構光生成器的出射光朝向一分光棱鏡,所述分光棱鏡的反射光朝向一干涉物鏡;
所述干涉物鏡使由分光棱鏡反射的光束在光軸的方向上會聚而照射于被測物,并且使從被測物反射得到的測量光束與從干涉物鏡內部得到的參照光束相干涉;
被測物的干涉光從所述干涉物鏡中返回后,依次途徑所述分光棱鏡、一筒鏡、一探測器,所述干涉光經過筒鏡后被探測器接收。
2.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述照明模塊包括一照明光源、準直透鏡、復眼透鏡、聚光透鏡,所述照明光源的出射光依次途徑所述準直透鏡、所述復眼透鏡、所述聚光透鏡后,形成準直均勻光線。
3.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述干涉物鏡包括一用于改變干涉光場條紋相位的環形移相器。
4.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述結構光生成器是一數字微鏡裝置,所述照明模塊與所述數字微鏡裝置之間設有一TIR棱鏡;
所述數字微鏡裝置包括一半導體芯片,所述半導體芯片上排布有一個由微鏡片組成的矩陣,每一個所述微鏡片控制投影畫面中的一個像素;
所述微鏡片是一反射鏡。
5.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述結構光生成器是一液晶顯示器,所述液晶顯示器包括至少一個偏振過濾片前板、至少一個偏振過濾片后板,所述偏振過濾片前板與所述偏振過濾片后板的偏振方向相互垂直;
所述偏振過濾片前板與所述偏振過濾片后板之間設有一液晶分子陣列層。
6.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述結構光生成器是一硅基液晶,所述照明模塊與所述數字微鏡裝置之間還設有一分光棱鏡。
7.根據權利要求1所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述結構光生成器是正弦光柵。
8.根據權利要求4、5、6或7所述的超分辨三維測量顯微鏡,其特征在于,所述結構光生成器連接有一控制裝置,所述控制裝置是PC終端,通過所述PC終端控制結構光生成器生成不同光強不同相位初值的結構光。
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