[發明專利]具有防光暈層的全息記錄介質和其制備有效
| 申請號: | 201410192595.5 | 申請日: | 2014-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN104143346B | 公開(公告)日: | 2019-02-01 |
| 發明(設計)人: | M-S.魏澤;F-K.布魯德;R.哈根;G.瓦爾策;T.羅勒;H.貝內特;D.赫內爾;T.法伊克 | 申請(專利權)人: | 科思創德國股份有限公司 |
| 主分類號: | G11B7/0065 | 分類號: | G11B7/0065;G11B7/241 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 趙蘇林;萬雪松 |
| 地址: | 德國萊*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 光暈 全息 記錄 介質 制備 | ||
本發明提供了一種層狀結構(100,200,300),其具有基底層(104)和至少一個結合了載體箔(102)和位于其上的記錄層(101)的復合材料,其中所述層狀結構(100,200,300)包括可從結合了載體箔(102)和記錄層(101)的復合材料上移除的黑層(103),其特征在于所述記錄層(101)是由包含多異氰酸酯組分、異氰酸酯反應性組分、至少一種寫入單體和至少一種光引發劑的光敏聚合物組合物形成的光敏聚合物。本發明進一步提供了制備這種層狀結構(100,200,300)的方法。
本發明涉及具有基底層和至少一種結合了載體箔和位于其上的記錄層的復合材料的層狀結構(set-up),其中所述層狀結構包括可從結合了載體箔和記錄層的復合材料上移除的黑層,還涉及制備這種層狀結構的方法。
體積相全息圖,或簡稱體積全息圖是全息光學元件(HOE),其可以具有多種多樣的圖像產生和光轉向功能。它們通過在全息過程中曝光合適的記錄介質制造。一種具體的HOE類型是透射全息圖,其相位光柵在透射中衍射合適方向的入射光和光譜顏色,因此可以由其制造全息漫射器、透鏡等。這些例如用作背投顯示器的屏幕,平面光波導中的耦合接入或耦合接出元件,或用作自動立體顯示器中的方向選擇性光轉向元件。透射全息圖使得可能獲得擴展功能的光學元件,其同時又是緊湊的/薄的、重量輕的并且操控靈活。
制備透射全息圖的方法和裝置是已知的。US2012/0038959顯示了一種干涉結構,其中激光光束被分成了物體光束和參考光束,它們通過合適的光學組件在記錄介質處形成干涉。通過干涉產生的強度調制在記錄介質的體積中產生了相應的相位調制。待要全息圖像化的物體例如是一個擴散器,其中激光束被散射并且作為物體波打在記錄介質上。在其它待全息圖像化的物體的情況下并且取決于全息圖的期望的幾何函數(重建角度和發射特性)和取決于期望的重建顏色光譜,必須改造裝置。單光束結構是一種改進的裝置。當物體是待制造其拷貝的主全息圖時,通常使用這種裝置。US2006/0176533描述了通過單光束結構由原版復制HOE的方法。將原版和記錄介質接觸。由透射全息圖組成的原版產生物體波,因此未衍射的透射激光干涉衍射的光,由此在記錄介質中產生主透射圖的拷貝。
用于進一步拷貝的原版或用作轉移全息圖的介質的記錄介質必須滿足的原則上的要求由文獻[“Practical Holography”, Graham Saxby著, IOP Publishing (2003),ISBN 0 7503 0912 1]已知。它們源于高全息光學質量要求。
術語轉移全息圖在這里和以下是指由一個或多個主全息圖制造的全息圖拷貝。
定義為箔或作為圖層的片狀記錄材料的主要要求如下:
? 高光學質量,低散射,在全息曝光期間理想地自顯影,理想地無需濕-化學或熱方法的簡單再加工,良好的長期穩定性,良好的環境穩定性,與產品集成步驟的兼容性,
? 以下是全息參數的進一步的要求,例如光譜敏感性,在光化學或光物理方法中的線性度,折射率調制的量級,全息圖的光譜寬度,橫向分辨率,低過曝傾向,和其能夠重現規定的角和光譜顏色的可能性。
定義為層狀復合材料的記錄介質的主要要求如下:
? 在全息曝光期間機械穩定,即非振蕩。一個常見的問題是在主全息圖中的黑點,其可以從各個視角看到。它們已知對于透射全息圖是由介質振蕩出全息平面引起的,所述介質振蕩出全息平面是曝光期間層狀系統部分的穩定性不足(“擺動(flapping)”)的結果。
? 光學透明基材,其保留了波前。雙折射的或具有厚度波動的基板的一個熟悉的問題是在轉移全息圖的平面中可見的黑點。雙折射可以局部地改變激光束的規定偏振(所謂的s-s偏振),因此制造了偏振調制以及產生全息圖的強度調制。光強度相應地不足以構建全息光柵,其對比度減弱。
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