[發明專利]一種基于模塊分析技術的二維光纖光譜圖像修復算法

有效

• 申請號: 201410191767.7
• 申請日: 2014-05-08
• 公開（公告）號: CN103942764B
• 公開（公告）日: 2016-10-19
• 發明（設計）人: 鄭新;呂辰雷;尹乾;郭平
• 申請（專利權）人: 北京師范大學
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于模塊分析技術的二維光纖光譜圖像修復算法，其特征在于，包括以下步驟：

1)通過對二維光纖光譜圖像進行下采樣運算，得到二維光纖光譜圖像的下采樣結果圖；

2)運行本地模塊分析函數，對二維光纖光譜圖像的下采樣結果圖進行逐模塊的分析，判定其是否為宇宙射線污染區域，并進行模塊標定；

3)對下采樣結果圖標定的模塊進行映射運算，找到其在原始二維光纖光譜圖像的對應模塊，重新標定；

4)按照原始光纖光譜圖像的標定模塊，通過自相似指導的方法，逐模塊的對原始二維光纖光譜圖像進行修復，最后獲得修復后的光線光譜圖像。

2.根據權利要求1所述的基于模塊分析技術的二維光纖光譜圖像修復算法，其特征在于，步驟1)中所述下采樣方法為：

F1(x，y)＝F2(x/b，y/b)。????????(1)

其中，F1代表下采樣圖像的像素點，x，y為像素坐標信息；F2為原始圖像，b為采樣倍數。

3.根據權利要求1所述的基于模塊分析技術的二維光纖光譜圖像修復算法，其特征在于，步驟2)中所述運行本地分析函數的具體方法為：

S＝{M|F(M)＞Y}。???????(2)

F(M)=Σj=0kΣi=0k|(xj,yi)-(xj,yi+1)|.---(3)]]>

S是污染模塊的集合，M是待檢測的模塊，經過分析函數F得到一個與M相對應的值，Y為判定閾值，當對M進行分析后得到的值大于Y，說明模塊M屬于污染模塊，加入到集合S中。分析函數F本身是一個類卷積運算，逐行對像素求差，并取絕對值。k為模塊的尺寸；i，j為像素行列的標號，x_j為第j列的行像素，y_i為第i行的列像素，y_i+1為第i+1行的列像素。為了增加分析的精度，使污染模塊能夠更加體現出特性，實際應用中會在(3)的基礎上取平方而不是絕對值，增加對污染模塊的像素差懲罰，進而增加了分析的精確度。

F(M)=Σj=0kΣi=0k{(xj,yi)-(xj,yi+1)}2.---(4)]]>