[發明專利]經涂覆的玻璃陶瓷板

無效

• 申請號: 201410190980.6
• 申請日: 2014-05-07
• 公開（公告）號: CN104140213A
• 公開（公告）日: 2014-11-12
• 發明（設計）人: 克里斯蒂安·亨;伊夫琳·魯迪吉爾-沃伊特;斯蒂芬尼·曼戈爾德;塔尼婭·沃伊沃德
• 申請（專利權）人: 肖特公開股份有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 張爽;郭國清

1.一種經涂覆的玻璃陶瓷烹飪板(1)，其具有限定應用側的一個面(3)，和限定下表面的相對面(5)，其中在所述下表面上提供多層涂層(7)，和其中所述多層涂層(7)包括包含組分鉻、鐵、鎳和硅的合金的金屬層(11)，其中所述合金的硅含量為至少2原子％，和其中所述金屬層(11)由阻擋層(13)覆蓋，所述阻擋層(13)的形式為包含組分鉻、鐵、鎳和硅的合金的氧化物，其具有的硅含量為至少2原子％，其中所述阻擋層(13)的氧摩爾含量比所述金屬層(11)的氧摩爾含量大至少10倍。

2.如前述權利要求中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述阻擋層(13)由所述金屬層(11)的合金的氧化物形成。

3.如前述權利要求中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中將所述阻擋層(13)形成為變化氧含量的梯度層，在所述阻擋層(13)中的氧含量在垂直于所述層和垂直于所述金屬層(11)的方向連續降低。

4.如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述多層涂層(7)包括在所述玻璃陶瓷上的第一至少部分透明的單層或多層的層(9)，和其中所述金屬層(11)沉積在所述第一至少部分透明的層(9)上。

5.如前述權利要求中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述第一層(9)包括材料Nb₂O₅、Ta₂O₅、Si₃N₄、ZrO₂、TiO₂的至少一種。

6.如兩項前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述第一層(9)包含所述金屬層(11)的合金的氧化物的層。

7.如前述權利要求中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中將所述第一層(9)形成為梯度層，其中所述第一層(9)的氧含量在垂直于所述層和垂直于所述金屬層(11)的方向連續降低。

8.如四項前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述第一層(9)具有小于400納米的厚度。

9.如五項前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中將所述第一層(9)和所述阻擋層(13)二者都形成為變化氧含量的梯度層，所述第一層(9)和所述阻擋層(13)融合到所述金屬層(11)中而沒有界面。

10.如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其包含一個另外的阻擋層(14)，該阻擋層(14)的材料與鄰近于所述金屬層的阻擋層(13)的材料不同。

11.如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述金屬層(11)具有奧氏體晶體結構。

12.如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述金屬層(11)的合金包含下述組分：

硅：2至5原子％；

鉻：22.0至28.0原子％

鎳：15.0至21.0原子％

鐵：48至56.0原子％。

13.如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板，其中所述金屬層(11)的碳含量小于0.3原子％。

14.用于制造如前述權利要求的任一項中請求保護的玻璃陶瓷烹飪板的方法，該方法包括如下步驟：

—提供玻璃陶瓷板；

—濺射沉積包含組分鉻、鐵、鎳和硅的合金的金屬層(11)，其中所述合金的硅含量為至少2原子％；

—制備覆蓋所述金屬層(11)的阻擋層(13)，該阻擋層(13)的形式為包含組分鉻、鐵、鎳和硅的合金的氧化物，其具有的硅含量為至少2原子％，其中所述阻擋層(13)的氧摩爾含量比所述金屬層(11)的氧摩爾含量大至少10倍。

15.如前述權利要求中請求保護的方法，其中在含氧氣氛中，從復合靶，特別是不銹鋼靶，通過反應性濺射沉積所述阻擋層(13)。

16.如權利要求14或15中請求保護的方法，其中通過氧化所述金屬層的表面制造所述阻擋層(13)。

17.如前述權利要求中請求保護的方法，其中在沉積所述金屬層(11)之前，在所述玻璃陶瓷上沉積第一至少部分透明的單層或多層的層(9)。