[發(fā)明專利]基于多流形學(xué)習(xí)的氣體濃度反演方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410190563.1 | 申請日: | 2014-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN103940767A | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮海亮;王海玲;黃鴻;謝吉海;王應(yīng)健 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/31 | 分類號: | G01N21/31;G06F19/00 |
| 代理公司: | 重慶博凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 50212 | 代理人: | 李海華 |
| 地址: | 400044 *** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 流形 學(xué)習(xí) 氣體 濃度 反演 方法 | ||
1.基于多流形學(xué)習(xí)的氣體濃度反演方法,其特征在于:步驟如下,
1)訓(xùn)練樣本光譜數(shù)據(jù)采集:通過光譜儀分別采集光源發(fā)出的光通過不同已知濃度的氣體時的光譜數(shù)據(jù),得到每種濃度氣體對應(yīng)的吸收光譜數(shù)據(jù);每種濃度氣體的吸收光譜數(shù)據(jù)進(jìn)行同樣次數(shù)的多次采集,使每種濃度氣體對應(yīng)著一組包含著其濃度特征信息的高維數(shù)據(jù);
2)光譜數(shù)據(jù)預(yù)處理:將采集的吸收光譜數(shù)據(jù)減去其中包含的暗光譜,并對相減后所得數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理;
3)特征提取:利用鄰域保持嵌入NPE算法對不同濃度的預(yù)處理后的數(shù)據(jù)分別進(jìn)行特征提取,提取主成分;
4)模型構(gòu)建:將第3)步得到的不同濃度氣體對應(yīng)的特征數(shù)據(jù)作為訓(xùn)練樣本,將訓(xùn)練樣本數(shù)據(jù)送入支持向量回歸SVR分類器進(jìn)行訓(xùn)練,再基于對應(yīng)的氣體濃度構(gòu)建反演模型;
5)測試樣本光譜數(shù)據(jù)采集:通過光譜儀多次采集光源發(fā)出的光通過待測濃度氣體時的吸收光譜數(shù)據(jù),得到待測濃度氣體對應(yīng)著的一組包含著其濃度特征信息的高維數(shù)據(jù);
6)將測試樣本光譜數(shù)據(jù)按步驟2)進(jìn)行預(yù)處理后再按步驟3)進(jìn)行特征提取,并將得到的特征數(shù)據(jù)作為測試樣本數(shù)據(jù)送入步驟4)構(gòu)建好的反演模型中,反演得到待測氣體濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于多流形學(xué)習(xí)的氣體濃度反演方法,其特征在于:第3)步特征提取的具體步驟為,
3.1)確定高維數(shù)據(jù)中任一數(shù)據(jù)點xi的k個近鄰點;
3.2)計算局部重構(gòu)權(quán)值W
在高維數(shù)據(jù)空間中,每個數(shù)據(jù)點xi可由它的k個近鄰點近似的線性表示,使數(shù)據(jù)點xi的重構(gòu)誤差最小來求局部重構(gòu)權(quán)值Wi,其目標(biāo)函數(shù)為:
其中:wij為xi與xj之間的權(quán)值,且若xj為xi的鄰近點,有wij≠0,否則wij=0;
根據(jù)約束條件,對公式(5)用Lagrange乘子法可求局部重構(gòu)權(quán)值W;
3.3)計算低維特征數(shù)據(jù)Y
NPE算法思想是通過投影矩陣A把高維空間的數(shù)據(jù)集投影到低維空間,使其局部近鄰數(shù)據(jù)保持不變,即保持局部重構(gòu)權(quán)值W不變;因為Y=ATX,則有:
約束條件為:
根據(jù)約束條件,對(6)式用Lagrange乘子法可得:
XMXTA=λXXTA?????????????????????????(7)
為使重構(gòu)誤差最小,從高維空間降到d維空間中,通過式(7)求取廣義特征值,并對特征值進(jìn)行升序排序,取出d個最小特征值對應(yīng)的特征向量作為投影矩陣A,再根據(jù)Y=ATX即可求出對應(yīng)的低維特征數(shù)據(jù)Y,即實現(xiàn)特征提取,X為步驟1)得到的高維數(shù)據(jù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于多流形學(xué)習(xí)的氣體濃度反演方法,其特征在于:第3.1)步確定數(shù)據(jù)點xi的k個近鄰點的方法為:計算xi與其余數(shù)據(jù)點間的歐氏距離,把距離最小的k個數(shù)據(jù)點作為近鄰點。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
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