[發明專利]具有高擴散性的涂層的光學元件

有效

• 申請號: 201410188130.2
• 申請日: 2014-05-06
• 公開（公告）號: CN104142525B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發明（設計）人: N.胡根貝格;M.海德爾;B.馮布蘭肯哈根;L.霍爾茨;S.克勞斯;F.馬喬恩齊克;M.克勞澤;E.格林;K-H.溫特;T.格勒格;S.福爾;A.佩特賴特;彭彬;J.皮茨;P.基費爾;A.漢森;M.克里格;A.諾伊費爾;M.施特羅伊施
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司光學國際有限公司
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;G02B1/12;G02C7/02
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 盧江,劉春元

1.一種光學元件，具有由在可見光譜范圍中透明的塑料制造的基質體（12）并且具有有多個層（14、16、18）的涂層（15），所述涂層包括與所述基質體（12）鄰接的硬漆層（14），

其特征在于，

所述涂層（15）具有擴散性D_F，該擴散性確保在所述基質體（12）中對穿過所述涂層（15）的水分子的吸收以及來自所述基質體（12）的水分子穿過所述涂層（15）從布置在所述涂層（15）的背離所述基質體（12）的側上的具有濕氣流密度j_D的空氣氣氛中的釋放，該空氣氣氛引起從在23℃和50%的相對空氣濕度情況下的空氣氣氛中在所述基質體（12）中填充的水分子的集合的平衡狀態出發在一時間間隔內在40℃和95%的相對空氣濕度情況下的空氣氣氛中在所述基質體（12）中填充的水分子的集合的平衡狀態的出現，該時間間隔與對于在同所述基質體（12）相同的未被涂覆的基質體的情況下在相應條件下該平衡狀態的出現所需的時間間隔相比長不大于長度Δt=10h的時長，其中所述涂層的擴散性D_F通過提高所述硬漆層的表面的界面能σ_S的極性分量σ_S^極性來提高。

2.根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，所述光學元件是鏡片或鏡片坯料。

3.根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，該時間間隔與對于在同所述基質體（12）相同的未被涂覆的基質體的情況下在相應條件下該平衡狀態的出現所需的時間間隔相比長不大于長度Δt=9h或Δt=8h或Δt=7h或Δt=6h或Δt=5h或Δt=4h或Δt=3h或Δt=2h的時長。

4.根據權利要求3所述的光學元件，其特征在于，該時間間隔與對于在同所述基質體（12）相同的未被涂覆的基質體的情況下在相應條件下該平衡狀態的出現所需的時間間隔相比長不大于長度Δt=1h的時長。

5.根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，該涂層（15）具有對應于在表征所述涂層（15）的耐刮擦性的擴展的Bayer測試中所確定的Bayer數Z_B的耐刮擦性，其中Z_B≥8。

6.根據權利要求5所述的光學元件，其特征在于，Z_B≥10。

7.根據權利要求6所述的光學元件，其特征在于，Z_B≥14。

8.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，該涂層（15）包含至少一個具有至少一個在真空室中蒸鍍的部分層的防反射涂層，所述部分層借助離子轟擊來致密化。

9.根據權利要求8所述的光學元件，其特征在于，所述部分層借助在用于產生所述部分層的蒸鍍過程的持續時間期間在所述部分層的位置處的離子流密度I≥30μA/cm²的情況下的離子轟擊來致密化。

10.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，該涂層（15）具有至少一個由SiO₂構成的石英層（30）或由SiO₂和Al₂O₃的混合物構成的具有層厚度d≥100nm的層。

11.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，在所述基質體（12）上的硬漆層（14）利用電暈放電來處理。

12.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，在所述基質體（12）上的硬漆層（14）利用低壓空氣等離子體來處理。

13.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，在所述基質體（12）上的硬漆層（14）利用輝光放電來處理。

14.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，所述硬漆層（14）利用包含作為過程添加物的含氟表面活化劑的溶膠-凝膠硬漆成分來制造。

15.根據權利要求1至7之一所述的光學元件，其特征在于，在所述涂層（15）中構造有多個空穴（100）形式的孔，所述孔從背離所述基質體（12）的側上的所述涂層（15）的表面（48）出發至少延伸直至所述硬漆層（14）。