[發明專利]投影儀在審
| 申請號： | 201410186998.9 | 申請日： | 2014-05-05 |
| 公開（公告）號： | CN104144309A | 公開（公告）日： | 2014-11-12 |
| 發明（設計）人： | 杉山伸夫 | 申請（專利權）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | H04N5/74 | 分類號： | H04N5/74;G03B21/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;王培超 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 投影儀 | ||
1.一種投影儀，其特征在于，
所述投影儀具備：
光源；
圖像形成系統，該圖像形成系統利用來自所述光源的光而形成圖像；
投射系統，該投射系統投射所述圖像形成系統所形成的圖像；以及
調光裝置，該調光裝置包括遮光部件，并對從所述光源射出的光的光量進行調整，所述遮光部件在所述投射系統的射出端面與所述光源之間的光路的內外移動，
所述遮光部件包括：
第一活動部，該第一活動部具有透光部以及遮光部；以及
第二活動部，該第二活動部遮擋通過所述透光部后的光，
在所述第一活動部與所述第二活動部中的一方或者雙方設置有散熱板。
2.根據權利要求1所述的投影儀，其特征在于，
在所述第一活動部，通過切出折彎而設置有所述散熱板，
所述透光部包括通過所述切出折彎而形成的開口。
3.根據權利要求2所述的投影儀，其特征在于，
所述第二活動部具有供通過所述透光部后的光入射的斜面，
所述第一活動部的所述散熱板將由所述第二活動部的所述斜面反射后的光向所述遮光部引導。
4.一種投影儀，其特征在于，
所述投影儀具備：
光源；
圖像形成系統，該圖像形成系統利用來自所述光源的光而形成圖像；
投射系統，該投射系統投射所述圖像形成系統所形成的圖像；以及
調光裝置，該調光裝置包括遮光部件，并對從所述光源射出的光的光量進行調整，所述遮光部件在所述投射系統的射出端面與所述光源之間的光路的內外移動，
所述遮光部件包括：
第一活動部，該第一活動部具有透光部以及遮光部；以及
第二活動部，該第二活動部具有供通過所述透光部后的光入射的斜面，并且借助由所述斜面進行的反射而將通過所述透光部后的光的一部分向所述遮光部引導。
5.根據權利要求1～4中任一項所述的投影儀，其特征在于，
在所述第一活動部中，隨著從來自所述光源的光的光強度相對弱的區域趨向來自所述光源的光的光強度強的區域，所述透光部的分布變密。
6.一種投影儀，其特征在于，
所述投影儀具備：
光源；
圖像形成系統，該圖像形成系統利用來自所述光源的光而形成圖像；
投射系統，該投射系統投射所述圖像形成系統所形成的圖像；以及
調光裝置，該調光裝置包括遮光部件，并對從所述投射系統射出的光的光量進行調整，所述遮光部件在所述投射系統的射出端面與所述光源之間的光路的內外移動，
所述遮光部件包括：
第一活動部，該第一活動部具有透光部以及遮光部；以及
第二活動部，該第二活動部遮擋通過所述透光部后的光，
在所述第一活動部，隨著從來自所述光源的光的光強度相對弱的區域趨向來自所述光源的光的光強度強的區域，所述透光部的分布變密。
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