[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410186962.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104345503A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-02-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 元盛煥;李善旭;權(quán)必淑;金榮奭;金源泰;柳漢俊;李宇宰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1341 | 分類號(hào): | G02F1/1341;G02F1/1335;G02F1/1333;G02F1/136 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 尹淑梅;戴嵩瑋 |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
基板,包括多個(gè)像素區(qū);
薄膜晶體管,形成在基板上;
像素電極,連接到薄膜晶體管并且形成在所述多個(gè)像素區(qū)中;
頂層,形成在像素電極上;
多個(gè)微腔體,置于像素電極和頂層之間;
注入孔,形成在頂層中,注入孔被構(gòu)造成暴露所述多個(gè)微腔體的至少一部分;
液晶層,填充在所述多個(gè)微腔體的至少一個(gè)微腔體中;
包封層,形成在頂層上,包封層被構(gòu)造成覆蓋注入孔并且密封所述多個(gè)微腔體;以及
有機(jī)層,形成在包封層上。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
第一谷,位于所述多個(gè)微腔體之中的相鄰的微腔體之間,
其中,有機(jī)層包括形成在第一谷中的阻光構(gòu)件。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中:
阻光構(gòu)件還形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的一個(gè)像素區(qū)的邊界處。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,其中:
有機(jī)層還包括形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的至少一個(gè)像素區(qū)中的濾色器。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中:
阻光構(gòu)件和濾色器形成為在局部區(qū)域中彼此疊置。
6.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
濾色器,形成在薄膜晶體管和像素電極之間,
其中,濾色器形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的至少一個(gè)像素區(qū)中。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中:
有機(jī)層包括形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的至少一個(gè)像素區(qū)中的濾色器。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中:
濾色器還形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的至少一個(gè)像素區(qū)的邊界處。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
阻光構(gòu)件,形成在像素電極和包封層之間,
其中,阻光構(gòu)件形成在所述多個(gè)像素區(qū)中的至少一個(gè)像素區(qū)的邊界處。
10.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
平面化層,形成在薄膜晶體管和像素電極之間。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





