[發明專利]一種平面靶材的磁場結構及其使用方法

有效

• 申請號: 201410186271.0
• 申請日: 2014-05-05
• 公開（公告）號: CN103966567A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 劉曉偉;丁向前;劉耀;李梁梁;白金超
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李迪

1.一種平面靶材的磁場結構，其特征在于，包括：第一級磁鐵陣列和第二級磁鐵陣列，且第一級磁鐵陣列和第二級磁鐵陣列相互垂直，第一級磁鐵陣列通電，第二級磁鐵陣列斷電，形成平行于靶材的一級刻蝕跑道；第二級磁鐵陣列通電，第一級磁鐵陣列斷電，形成垂直于一級刻蝕跑道的二級刻蝕跑道。

2.如權利要求1所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述一級刻蝕跑道包括一級跑道刻蝕深區和一級跑道刻蝕淺區，所述二級刻蝕跑道包括二級跑道刻蝕深區和二級跑道刻蝕淺區。

3.如權利要求2所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第二級磁鐵陣列在一級跑道刻蝕深區電場強度逐漸減弱，在一級跑道刻蝕淺區電場強度逐漸增強。

4.如權利要求1所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述一級刻蝕跑道包括兩直道部分和兩彎道部分，兩直道部分相互平行，兩彎道部分別在兩直線部分的兩端，并且連接兩直道部分，構成長條狀矩形。

5.如權利要求1所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第二級磁鐵陣列為分段式結構，每一段利用獨立電源進行控制。

6.如權利要求5所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第二級磁鐵陣列包括五段，第一段磁鐵和第五段磁鐵對應一級刻蝕跑道之外區域的靶材表面，第二段磁鐵和第四段磁鐵恰好對應一級刻蝕跑道所在的區域，第三段磁鐵對應一級刻蝕跑道以內區域的靶材表面。

7.如權利要求6所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第一段磁鐵和第五段磁鐵連接第一電源，第二段磁鐵和第四段磁鐵連接第二電源，第三段磁鐵連接第三電源，第一電源、第二電源和第三電源分別為相應分段磁鐵提供電流大小不同的電源。

8.如權利要求1所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第一級磁鐵陣列和第二級磁鐵陣列均包括兩個極性反向設置的磁鐵。

9.如權利要求1所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述第一級磁鐵陣列和第二級磁鐵陣列均包括三個磁鐵，且每個磁鐵與相鄰的磁鐵極性相反。

10.如權利要求8或9所述的平面靶材的磁場結構，其特征在于，所述磁鐵為電磁鐵或者永久磁鐵。

11.一種權利要求1-10中任一項所述的平面靶材的磁場結構的使用方法，其特征在于，包括：

第一級磁鐵陣列通電，第二級磁鐵陣列斷電，第一級磁鐵陣列沿左右方向移動對靶材進行濺射，在靶材表面形成平行于靶材的一級刻蝕跑道；

第二級磁鐵陣列通電，第一級磁鐵陣列斷電，第二級磁鐵陣列沿上下方向移動對靶材表面繼續進行濺射，并根據一級刻蝕跑道的刻蝕程度調節第二級磁鐵陣列的電場強度和移動速度，形成垂直于靶材的二級刻蝕跑道。

12.如權利要求11所述的使用方法，其特征在于，所述第二級磁鐵陣列在一級刻蝕跑道的直道部分的移動速度小于第二級磁鐵陣列在一級刻蝕跑道的彎道部分的移動速度。

13.如權利要求11所述的使用方法，其特征在于，所述第二級磁鐵陣列對應不同位置的一級刻蝕跑道的電場強度通過電源提供的電流大小進行調節。

14.如權利要求13所述的使用方法，其特征在于，第二級磁鐵陣列在一級跑道刻蝕深區進行刻蝕時的第二電源的電流小于第三電源的電流，第二級磁鐵陣列在一級跑道刻蝕淺區進行刻蝕時的第一電流大于第三電源的電流。