[發明專利]一種遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201410185880.4
• 申請日: 2014-05-05
• 公開（公告）號: CN105084780B
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 田永剛
• 申請（專利權）人: 福州新福興玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/40
• 分類號: C03C17/40
• 代理公司: 北京元本知識產權代理事務所11308
• 代理人: 喻蓉

技術領域

本發明涉及一種鍍膜玻璃制備方法及由該方法制備的鍍膜玻璃，特別涉及一種遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法及其制備的遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃。

背景技術

鍍膜玻璃(Reflective glass)也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等。

鍍膜玻璃的生產方法很多，如真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積法以及溶膠-凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計制造多層復雜膜系，可在白色玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，是目前生產和使用最多的技術。真空蒸發鍍膜玻璃的品種和質量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空濺射法取代。化學氣相沉積法是在浮法玻璃生產線上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃的技術。該方法的設備投入少、易調控，產品成本低、化學穩定性好、可熱加工，是目前最有發展前途的生產方法之一。溶膠-凝膠法生產鍍膜玻璃工藝簡單，穩定性好，不足之處是產品光透射比太高，裝飾性較差。

磁控濺射法是目前世界范圍內應用最多、工藝最穩定、性能最好(輻射率E值≤0.12)、品種最豐富、能源需求相對較低的鍍膜玻璃生產工藝。由于這種生產工藝不需要與浮法玻璃生產線捆綁在一起使用，即可以將浮法玻璃生產與玻璃鍍膜工藝分開進行，有效的降低了玻璃深加工企業重復建設浮法玻璃生產線、減少了二氧化碳排放量及相關的能源消耗。

磁控濺射鍍膜的原理是在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，永久磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下，氬氣電離成正離子和電子，在靶上加有一定的負高壓，從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，靶上被濺射出來的原子以較高的動能脫離靶面飛向玻璃基片并淀積成膜。

目前應用最多的熱反射玻璃和低輻射玻璃基本上采用真空磁控濺射法和化學氣相沉積法生產。國際上比較著名的真空磁控濺射法設備生產廠家有BOC公司(美國)和萊寶公司(德國)；化學氣相沉積法設備廠家有皮爾金頓公司(英國)等。目前，我國已經出現數百家鍍膜玻璃生產廠家，在行業中影響較大的真空磁控濺射法生產廠家有中國南玻集團公司和上海陽光鍍膜玻璃公司等，化學氣相沉積法生產廠家有山東藍星玻璃公司和長江浮法玻璃公司等。

目前對遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃的生產研究不多，它解決了單銀低輻射鍍膜玻璃不能解決的高透過低遮陽要求。本發明選用特定的鎳鉻、硅鋁、鋅鋁、銀為濺射靶材制作的遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃，色彩鮮艷且容易調節、質量穩定、制作效率高，但是，該方法制作的是遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃(LOW-E玻璃)，僅對波長在4.5-25微米范圍內的遠紅外線有較高的反射比，適宜長期使用。

發明內容

本發明的首要目的是針對上述現有鍍膜玻璃制備技術存在的問題提供一種遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法及制備的遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃。本發明方法制備的遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃在陽光下呈淺灰色，可達到良好的裝飾效果；可見光透過率低、室外可見光反射率低、太陽能的透過率低、太陽能反射率高；并且本發明的遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃傳熱系數低、遮陽系數低、熱工性能良好，能有效阻止熱能進入室內，降低制冷能耗；也可制成中空玻璃，控光節能效果更佳。

為實現本發明的目的，本發明一方面提供一種遮陽型雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括依次緊密疊合的玻璃基片和金屬膜層：

玻璃基片；

第一膜層，位于玻璃基片的表面，所述第一膜層為硅鋁合金膜；

第二膜層，位于所述第一膜層的表面，所述第二鋅鋁膜層為合金膜；

第三膜層，位于所述第二膜層的表面，所述第三膜層為銀膜；

第四膜層，位于所述第三膜層的表面，所述第四膜層為鎳鉻合金膜；

第五膜層，位于所述第四膜層的表面，所述第五膜層為硅鋁合金膜；

第六膜層，位于所述第五膜層的表面，所述第六膜層為鋅鋁合金膜；

第七膜層，位于所述第六膜層的表面，所述第七膜層為銀膜；

第八膜層，位于所述第七膜層的表面，所述第八膜層為鎳鉻合金膜；