[發明專利]一種高透型雙銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201410185879.1
• 申請日: 2014-05-05
• 公開（公告）號: CN105084779B
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發明（設計）人: 田永剛
• 申請（專利權）人: 福州新福興玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/40
• 分類號: C03C17/40
• 代理公司: 北京元本知識產權代理事務所11308
• 代理人: 喻蓉

1.一種高透型雙銀低輻射鍍膜玻璃，包括依次疊合的玻璃基片和金屬膜層，其特征是：

玻璃基片(1)；

第一膜層(2)，位于玻璃基片的表面，所述第一膜層為硅鋁合金膜，其厚度為8.5-13.5nm；

第二膜層(3)，位于所述第一膜層的表面，所述第二膜層為鋅鋁合金膜，其厚度為17.0-26.0nm；

第三膜層(4)，位于所述第二膜層的表面，所述第三膜層為銀膜，其厚度為7.0-8.5nm；

第四膜層(5)，位于所述第三膜層的表面，所述第四膜層為鎳鉻合金膜，其厚度為4.0-5.5nm；

第五膜層(6)，位于所述第四膜層的表面，所述第五膜層為鋅錫合金膜，其厚度為55.0-65.0nm；

第六膜層(7)，位于所述第五膜層的表面，所述第六膜層為鋅鋁合金膜，其厚度為30.0-33.0nm；

第七膜層(8)，位于所述第六膜層的表面，所述第七膜層為銀膜，其厚度為4.0-5.2nm；

第八膜層(9)，位于所述第七膜層的表面，所述第八膜層為鎳鉻合金膜，其厚度為4.0-5.2nm；

第九膜層(10)，位于所述第八膜層的表面，所述第九膜層為硅鋁合金膜，其厚度為40.0-55.0nm。

2.如權利要求1所述的鍍膜玻璃，其特征是在玻璃基片(1)的一個表面自下而上依次疊合所述第一硅鋁合金膜層(2)、第二鋅鋁合金膜層(3)、第三銀膜層(4)、第四鎳鉻合金膜層(5)、第五鋅錫合金膜層(6)、第六鋅鋁合金膜層(7)、第七銀膜層(8)、第八鎳鉻合金膜層(9)第九硅鋁合金膜層(10)。

3.一種高透型雙銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法，包括如下順序進行的步驟：

1)燒結靶材

將硅鋁合金、鋅鋁合金、鎳鉻合金、銀、鋅錫合金分別燒結在玻璃鍍膜機的真空濺射室的靶位上，備用；

2)玻璃的預處理

將待鍍膜處理的玻璃置于真空狀態下，對待鍍膜處理的玻璃進行排濕、脫氣處理，降低玻璃表面沉積的水份和氣體，制得排濕、脫氣玻璃；

3)鍍膜處理

將排濕、脫氣玻璃送入玻璃鍍膜機的真空磁控濺射室內，在排濕、脫氣玻璃的表面自下而上依次鍍覆第一硅鋁合金膜層、第二鋅鋁合金膜層、第三銀膜、第四鎳鉻合金膜層、第五鋅錫合金膜層、第六鋅鋁合金膜層、和第七銀膜、第八鎳鉻合金膜層、第九硅鋁合金膜層，其中所述第一硅鋁合金膜層的厚度為8.5-13.5nm；所述第二鋅鋁合金膜層的厚度為17.0-26.0nm；所述第三銀膜層的厚度為7.0-8.5nm；所述第四鎳鉻合金膜層的厚度為4.0-5.5nm；所述第五鋅錫合金膜層的厚度為55.0-65.0nm；所述第六鋅鋁合金膜層的厚度為30.0-33.0nm；所述第七銀膜層的厚度為4.0-5.2nm；所述第八鎳鉻合金膜層的厚度為4.0-5.2nm；所述第九硅鋁合金膜層的厚度為40.0-55.0nm。

4.如權利要求3所述的制備方法，其特征是步驟3)中所述第五鋅錫合金膜層分兩次鍍覆處理而成。

5.如權利要求3或4所述的制備方法，其特征是步驟3)中所述第九硅鋁合金膜層分兩次鍍覆處理而成。

6.如權利要求3或4所述的制備方法，其特征是步驟2)中所述排濕、脫氣處理是將待鍍膜玻璃分2個處理階段降低玻璃表面沉積的水份和氣體，制得所述的排濕、脫氣玻璃。

7.如權利要求6所述的制備方法，其特征是，所述排濕、脫氣處理過程中第一處理階段中的絕對壓力高于第二處理階段中的絕對壓力。

8.如權利要求7所述的制備方法，其特征是第1處理階段過程中的絕對壓力5.0-6.0×10^－2mbar；第2處理階段過程中的絕對壓力為3.0-6.0×10^-3mbar。

9.如權利要求3或4所述的制備方法，其特征是還包括步驟4)緩沖處理，將經過鍍膜處理的玻璃從真空磁控濺射室輸送至壓力緩沖室內，逐漸提高緩沖室內的壓力，直至達到常壓；降低緩沖室內的溫度，使室內溫度達20-35℃。