[發明專利]一種磁控濺射設備

在審

• 申請號: 201410184891.0
• 申請日: 2014-05-05
• 公開（公告）號: CN105088156A
• 公開（公告）日: 2015-11-25
• 發明（設計）人: 宋太偉;高偉波
• 申請（專利權）人: 上海建冶環保科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種磁控濺射設備，其特征在于，包括：

磁控濺射室，其左、右側壁分別設置一個進氣口和抽氣口；

濺射靶、靶材，位于磁控濺射室內下部；

磁鐵，位于磁控濺射室內濺射靶底部；

可移動基板臺，位于磁控濺射室內上部，可上下移動，在其與濺射靶的相對面上設置有基片；

保護罩，位于磁控濺射室內，放置在靶材和可移動基板臺之間；

高頻電源，位于磁控濺射室外，其正負極分別與可移動基板臺和濺射靶連接；

通電線圈，纏繞在保護罩上，用于產生變化的磁場；

控制裝置，位于磁控濺射室外，用于控制基板臺的移動。

2.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的可移動基板臺和濺射靶之間的間距為50~200mm。

3.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的高頻電源的頻率為10⁷~2×10⁸Hz。

4.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的保護罩為中空圓柱形，側壁為鏤空結構。

5.根據權利要求4所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的保護罩內徑大于或等于所有靶材所在外接圓的直徑，其高度大于可移動基板臺在最低位置處的下底面與磁控濺射室內壁底面之間的距離。

6.根據權利要求4或5所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的保護罩采用的材質為石英或陶瓷材料。

7.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的通電線圈的匝數至少為2匝，為可拆卸的鏤空結構，相鄰通電線圈之間留有空隙。

8.根據權利要求7所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的通電線圈內電流可調節，產生的磁場強度為10^-1~10^-5T。

9.根據權利要求1所述的磁控濺射設備，其特征在于，所述的磁鐵為永磁體，磁場強度為10^-2~1T。